Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 1. Шутов Д.А - 71 стр.

пленки.
     Все три механизма могут проявляться одновременно.

      Описание лабораторного макета
                                  Вариант 1.

      Для выполнения лабораторного задания предоставляются образцы
фотошаблонов, помещенные в пластмассовые кассеты. Образцы фотошаблонов
выполнены на фотоэмульсионных пленках и диазопленках и представляют собой
образцы рабочих ФШ, предназначенные для получения рисунка на фоторезисте.
Зеркальные ФШ в образцах отмечены индексом «О». Все фотошаблоны
пронумерованы от 1 до 12.
                                 Вариант 2.

       Экспериментальная установка, изображенная на рис.9, позволяет получить
металлические и диэлектрические пленки методом ионно-плазменного
распыления.
       Рабочая камера (9) имеет форму цилиндра и выполнена из нержавеющей
стали. Сверху она закрывается стеклянным колпаком (6) с резиновым уплотнением
(8). В боковой камере (11) расположен вольфрамовый термокатод (10), который
разогревается пропусканием по нему тока до температуры 2800°С, которой
достаточно для требуемой эмиссии электронов. Полый цилиндрический анод (3)
изготовлен из нержавеющей стали. Катодные выводы (12) и анод имеют водяное
охлаждение, необходимое для предохранения от перегрева.
       Мишенью служат распыляемый материал (2). Она расположена в нижней
части рабочей камеры. Диаметр мишени равен 50 мм. С нерабочей стороны она
закрыта экраном (1), имеющим нулевой потенциал. Расстояние между мишенью и
экраном везде меньше длины темного катодного пространства Это необходимое
условие для того, чтобы между экраном и мишенью не горел разряд.
       Устройство для крепления подложек состоит из диска (7), на котором
располагается несколько подложек. Диск приводится во вращение электромотором
(5). Это позволяет последовательно получать пленки на всех подложках в едином
цикле без разгерметизации вакуумной камеры.
       Расстояние между мишенью и подложками составляет 90 мм. Напуск
рабочего газа в систему осуществляется через штуцер (13), а напуск атмосферы для
разгерметизации камеры - вентилем (14).
       На рис. 9 отдельно показана вакуумная схема установки трех электродного
реактивного распыления мишеней. Вакуумная схема установки позволяет более
детально рассмотреть последовательность операций работы на данной установке.
На схеме показаны рабочая камера (1), система откачки и напуска рабочего газа
(откачка осуществляется форвакуумным насосом (4) типа 3НВР-1Д, и
диффузионным насосом (7) типа Tungsram). Напуск плазмообразующего газа
осуществляется и регулируется с помощью игольчатого натекателя (2) типа НК-2Р.
Давление в системе измеряется вакууметром ВИТ-2 с датчиком ПМТ-2 (10). Ручки
управления вакуумными коммуникациями "Затвор диффузионного насоса" (8),
"Байпас" (6), "Напуск воздуха в насос" (3) и "Форвакуум" (5) выведены на
переднюю стенку каркаса.


                                       71