ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
54
в
органических растворителях с последующим механическим удалением слоя,
кипячение в кислотах, ионно-плазменную и плазмохимическую обработку по-
верхности.
Фоторезист представляет собой многокомпонентное светочувствительное
вещество, изменяющее свои свойства под воздействием актиничного (то есть
вызывающего протекание фотохимических реакций) света. Фоторезист состоит
из трех основных компонентов: полимерной основы, светочувствительного
компонента и растворителя, обеспечивающего фоторезисту заданную вязкость.
Помимо этого в состав фоторезиста могут быть введены специальные добавки,
в частности, сенсибилизаторы для изменения спектральной характеристики
светочувствительности, адгезивы для улучшения сцепления фоторезистивного
слоя с подложкой, а также добавки, повышающие кислотостойкость,
и
так
далее.
Фотохимические реакции, происходящие в фоторезистах при облучении
их актиничным светом, отличаются сложностью и многообразием. Существуют
несколько типов фотохимических реакций: фотораспад, фотоперегруппировка,
фотоприсоединение и ряд других. Фотораспад представляет собой разложение
возбужденной светом молекулы на активные части (ионы или нейтральные час-
тицы – свободные радикалы). Фотоперегруппировка сопровождается поворо-
том одной группы атомов относительно другой или перемещением группы ато-
мов из одной части скелета молекулы в другую. Фотоприсоединение представ-
ляет собой присоединение к возбужденной молекуле другой молекулы. В част-
ном случае такой процесс может приводить к образованию новых связей в
структуре молекулы.
В зависимости от характера протекающих в фоторезистах фотохимиче-
ских реакций, их подразделяют на две группы: позитивные и
негативные фото-
резисты. В негативных фоторезистах под воздействием света происходит фото-
полимеризация мономерных молекул в полимерную пленку, в
результате чего
растворимость облученных участков уменьшается и после проявления они ос-
таются на поверхности подложки. В позитивных фоторезистах в результате ре-
акции фотораспада происходит разрыв поперечных связей в полимерной осно-
ве, и у облученных участков растворимость увеличивается. После проявления
позитивных фоторезистов облученные участки будут стравливаться, а не облу-
ченные останутся на
подложке.
Основными критериями, которые необходимо принимать во внимание
при использовании фоторезистов в технологии полупроводниковых приборов
и
интегральных микросхем, являются светочувствительность, разрешающая
способность и кислотостойкость. Светочувствительность – это величина, об-
ратная экспозиции, требуемой для перевода фоторезиста в растворимое (пози-
тивный фоторезист) или в нерастворимое (негативный фоторезист) состояние:
,
t
E
1
H
1
S
⋅
==
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 52
- 53
- 54
- 55
- 56
- …
- следующая ›
- последняя »
