Физико-химические основы технологии электронных средств. Смирнов В.И. - 74 стр.

UptoLike

Составители: 

74
Обычно
температура
испарителя
значительно
превышает
температуру
подложки
и
стенок
камеры
,
поэтому
р
и
>>
р
к
.
С
учетом
этого
формулу
(4.1)
можно
привести
к
виду
где
М
молярная
масса
вещества
.
Полученное
выражение
представляет
собой
уравнение
Ленгмюра
.
Практика
показывает
,
что
процесс
осаждения
пленок
на
подложку
проис
-
ходит
с
приемлемой
для
производства
скоростью
,
если
давление
насыщенного
пара
примерно
равно
1,3
Па
.
Температура
вещества
,
при
которой
р
и
= 1,3
Па
,
называют
условной
температурой
Т
усл
.
Для
некоторых
веществ
условная
тем
-
пература
выше
температуры
плавления
Т
пл
,
для
некоторых
ниже
.
Если
Т
усл
<
Т
пл
,
то
это
вещество
можно
интенсивно
испарять
из
твердой
фазы
(
воз
-
гонкой
).
В
противном
случае
испарение
осуществляют
из
жидкой
фазы
.
Для
однокомпонентной
двухфазной
равновесной
системы
,
например
сис
-
темы
«
твердое
вещество
пар
»
или
«
жидкость
пар
»,
в
соответствии
с
правилом
фаз
Гиббса
существует
только
один
независимый
параметр
тем
-
пература
вещества
в
испарителе
Т
,
от
которой
зависит
давление
насыщенного
пара
р
и
.
Эта
зависимость
выражается
уравнением
Клаузиуса
-
Клапейрона
где
Q
молярная
теплота
парообразования
; V
m.n
, V
m.ж
молярные
объемы
ве
-
щества
в
парообразной
и
жидкой
фазах
соответственно
.
Так
как
при
испарении
V
m.n
>> V
m.ж
,
то
молярным
объемом
жидкой
фазы
в
уравнении
(4.2)
можно
пре
-
небречь
.
Тогда
Предполагая
,
что
пар
можно
считать
идеальным
газом
,
запишем
уравне
-
ние
Менделеева
-
Клапейрона
для
одного
моля
пара
:
где
R –
универсальная
газовая
постоянная
.
Выразим
из
него
V
m.n
,
подставим
в
выражение
(4.3)
и
разделим
перемен
-
ные
.
В
результате
получим
Интегрируя
уравнение
(4.4),
получим
,
MT
и
α
p
24
102,63
и
V =
( )
(4.2) ,
m.
ж
V
m.n
VT
Q
dT
и
dp
=
(4.3) .
m.n
TV
Q
dT
и
dp
=
RT,
m.n
V
и
p
=
(4.4) dT.
2
RT
Q
и
p
и
dp
=