ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
75
где
const –
постоянная
интегрирования
.
Из
полученного
выражения
следует
,
что
давление
насыщенного
пара
р
и
увеличивается
с
ростом
температуры
по
экспоненциальному
закону
.
Реальная
зависимость
ln p
и
= f(T)
является
более
сложной
.
Ее
можно
описать
формулой
где
A, B, C, D
и
E –
эмпирические
коэффициенты
.
Зависимости
давления
насыщенного
пара
от
температуры
для
всех
ве
-
ществ
,
используемых
для
напыления
тонких
пленок
,
представлены
в
различных
справочниках
в
форме
подробных
таблиц
или
графиков
.
Кинетика процесса переноса испаренных атомов к подложке
Вторая
стадия
процесса
напыления
тонких
пленок
–
перенос
молекул
ве
-
щества
от
испарителя
к
подложке
.
Если
обеспечить
прямолинейное
и
направ
-
ленное
движение
молекул
к
подложке
,
то
можно
получить
высокий
коэффици
-
ент
использования
материала
,
что
особенно
важно
при
осаждении
дорогостоя
-
щих
материалов
.
При
прочих
равных
условиях
это
повышает
также
и
скорость
роста
пленки
на
подложке
.
Произведем
оценку
давления
остаточного
газа
в
камере
,
необходимого
для
того
,
чтобы
молекулы
испаряемого
вещества
переносились
к
подложке
без
столкновения
с
молекулами
остаточного
газа
.
Вывод
точных
соотношений
,
описывающих
поведение
одиночной
молекулы
вещества
в
среде
разреженного
газа
,
достаточно
затруднен
.
Поэтому
произведем
оценку
с
учетом
ряда
допуще
-
ний
.
Будем
считать
,
что
эффективный
диаметр
молекулы
испаряемого
вещест
-
ва
и
ее
тепловая
скорость
имеют
один
порядок
величины
с
аналогичными
па
-
раметрами
для
молекул
остаточного
газа
.
Тогда
вероятность
w
для
молекул
ве
-
щества
преодолеть
расстояние
s
от
испарителя
до
подложки
без
столкновений
определяется
экспоненциальным
соотношением
где
λ
ср
–
средняя
длина
свободного
пробега
молекул
остаточного
газа
.
Если
,
например
,
задать
вероятность
w = 0,95,
то
это
соответствует
длине
свободного
пробега
λ
ср
= 20 s.
На
самом
деле
эта
оценка
содержит
в
себе
неко
-
торую
погрешность
,
так
как
средняя
длина
свободного
пробега
для
молекул
ос
-
таточного
газа
определяется
в
основном
температурой
стенок
камеры
(
не
силь
-
const,
RT
∆
Q
и
lnp +−=
,
2
T
E
DTClnTB
T
A
u
lnp ++++=
(4.5) ,
ср
λ
s
expw
−=
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 73
- 74
- 75
- 76
- 77
- …
- следующая ›
- последняя »
