Фотолитографический метод создания тонкопленочных ВТСП структур. Сычев С.А - 12 стр.

UptoLike

Рубрика: 

23
позиции и, как следствие этого, к дефектам в последующих техно-
логических операциях.
Наличие клина в окисной пленке один из часто встречающих-
ся в фотолитографическом процессе дефектов. Этот вид дефекта
оказывает существенное влияние на размер создаваемой диффузи-
онной области. Без клина в окисной пленке распространение диффу-
занта вбок строго определяется режимом диффузии и однозначно
связано с глубиной диффузии. При наличии клина дополнительно
увеличиваются размеры диффузионной области за счет проникнове-
ния диффундирующей примеси через тонкую область клина в ис-
ходный материал рабочего образца. Это происходит потому, что
толщина окисла в области клина является недостаточной для защиты
рабочего образца от диффундирующей примеси. Поэтому, чем
больше клин, тем шире его тонкая область и, следовательно, больше
дополнительное неконтролируемое увеличение диффузионной об-
ласти. Причинами, вызывающими появление клина в фотолитогра-
фическом процессе, могут быть неправильно подобранная экспози-
ция фоторезиста, наличие плохого контакта между пластиной и фо-
тошаблоном при экспонировании, недостаточная оптическая плот-
ность непрозрачных участков фотошаблона, неперпендикулярное
падение света на фотошаблон, а также некачественное проявление
фоторезиста после экспонирования.
Неровность края изображения пленки фоторезиста появляет-
ся в тех случаях, когда плохо подобраны режимы экспозиции и про-
явления. Мельчайшие неровности края в виде периодических высту-
пов и впадин могут возникнуть из-за наличия в фоторезистах субпо-
лимерных частиц размером 0,3 0,5 мкм. Появление таких частиц
связано с неполной растворимостью сухого резиста в используемых
составах. Более крупные и нерегулярные выступы и впадины обычно
появляются при использовании некачественных фотошаблонов.
Наиболее часто этот вид дефекта возникает при употреблении ме-
таллизированных шаблонов, имеющих зубчатые края элементов
изображения. Для предупреждения этого вида дефекта необходимо
24
тщательно фильтровать фоторезист и проверять качество используе-
мого фотошаблона.
Изменение заданных геометрических размеров изображения
имеет место при плохом контакте между рабочим образцом и фото-
шаблоном. Плохой контакт между этими элементами приводит к по-
явлению воздушного зазора, который при экспонировании изменяет
характер и размер переносимого с фотошаблона изображения. Чем
больше зазор между контактируемыми элементами, тем сильнее ис-
кажается первоначальный рисунок изображения. Кроме того, на из-
менение геометрических размеров изображения могут оказывать
существенное влияние неправильно подобранные режимы экспони-
рования и проявления.
Наличие ореола по краю изображения связано с рассеянием
света, проходящего через фотошаблон при экспонировании. Рассея-
ние света приводит к образованию по краю изображения «нерезкой
зоны», которая после проявления дает ореол. Этот вид дефекта при-
водит к ухудшению геометрических параметров изображения и по-
следующих технологических операций. Все перечисленные дефекты
оказывают большое влияние на последующие технологические опе-
рации изготовления приборов, ухудшая их электрические парамет-
ры.
позиции и, как следствие этого, к дефектам в последующих техно-     тщательно фильтровать фоторезист и проверять качество используе-
логических операциях.                                               мого фотошаблона.
      Наличие клина в окисной пленке – один из часто встречающих-         Изменение заданных геометрических размеров изображения
ся в фотолитографическом процессе дефектов. Этот вид дефекта        имеет место при плохом контакте между рабочим образцом и фото-
оказывает существенное влияние на размер создаваемой диффузи-       шаблоном. Плохой контакт между этими элементами приводит к по-
онной области. Без клина в окисной пленке распространение диффу-    явлению воздушного зазора, который при экспонировании изменяет
занта вбок строго определяется режимом диффузии и однозначно        характер и размер переносимого с фотошаблона изображения. Чем
связано с глубиной диффузии. При наличии клина дополнительно        больше зазор между контактируемыми элементами, тем сильнее ис-
увеличиваются размеры диффузионной области за счет проникнове-      кажается первоначальный рисунок изображения. Кроме того, на из-
ния диффундирующей примеси через тонкую область клина в ис-         менение геометрических размеров изображения могут оказывать
ходный материал рабочего образца. Это происходит потому, что        существенное влияние неправильно подобранные режимы экспони-
толщина окисла в области клина является недостаточной для защиты    рования и проявления.
рабочего образца от диффундирующей примеси. Поэтому, чем                  Наличие ореола по краю изображения связано с рассеянием
больше клин, тем шире его тонкая область и, следовательно, больше   света, проходящего через фотошаблон при экспонировании. Рассея-
дополнительное неконтролируемое увеличение диффузионной об-         ние света приводит к образованию по краю изображения «нерезкой
ласти. Причинами, вызывающими появление клина в фотолитогра-        зоны», которая после проявления дает ореол. Этот вид дефекта при-
фическом процессе, могут быть неправильно подобранная экспози-      водит к ухудшению геометрических параметров изображения и по-
ция фоторезиста, наличие плохого контакта между пластиной и фо-     следующих технологических операций. Все перечисленные дефекты
тошаблоном при экспонировании, недостаточная оптическая плот-       оказывают большое влияние на последующие технологические опе-
ность непрозрачных участков фотошаблона, неперпендикулярное         рации изготовления приборов, ухудшая их электрические парамет-
падение света на фотошаблон, а также некачественное проявление      ры.
фоторезиста после экспонирования.
      Неровность края изображения пленки фоторезиста появляет-
ся в тех случаях, когда плохо подобраны режимы экспозиции и про-
явления. Мельчайшие неровности края в виде периодических высту-
пов и впадин могут возникнуть из-за наличия в фоторезистах субпо-
лимерных частиц размером 0,3 – 0,5 мкм. Появление таких частиц
связано с неполной растворимостью сухого резиста в используемых
составах. Более крупные и нерегулярные выступы и впадины обычно
появляются при использовании некачественных фотошаблонов.
Наиболее часто этот вид дефекта возникает при употреблении ме-
таллизированных шаблонов, имеющих зубчатые края элементов
изображения. Для предупреждения этого вида дефекта необходимо


                               23                                                                  24