Составители:
Рубрика:
Рис. 2.2.3. Решетка с профилирован-
ным штрихом.
γ
γ
N
′
N
b
t
Пусть i, i′ – углы между лучами и нормалью N′, β = (ϕ+ϕ′)/2, а
θ = (ϕ′– ϕ)/2. В этих обозначениях θ – половина угла между лучами, а
β – угол поворота их биссектрисы относительно нормали к решетке. В
этих обозначениях
ϕ = β–θ, ϕ′ = β+θ, i = ϕ– γ = (β–γ)–θ, i′ = ϕ′–γ = (β– γ)+θ.
Для
u и v имеем:
u = πb
⋅
cosϕ(sini+sini′)/λ = 2πb⋅cosϕ⋅sin(β–γ)cosθ/ λ, (2.2.14а)
v = πt
⋅
(sinϕ+sinϕ′)/λ = 2πt⋅sinβ⋅cosθ/λ. (2.2.14б)
Оказывается, что величина
v, аргумент в функции Ψ(v), опреде-
ляющей положения главных максимумов, не зависит от
γ, а u – зависит,
причем, если окажется, что в положении, соответствующем нужному
нам дифракционному максимуму,
β = γ, то u = 0 и Φ(u) = 1. Это – слу-
чай зеркального отражения от поверхности штриха. Напротив, в нуле-
вом порядке, при
β = 0, интенсивность будет меньше, чем в рабочем
порядке.
Эффективность решеток с профилированным штрихом демонст-
рирует рис. 2.2.4, на котором представлены графики зависимости функ-
ции
Φ(u) от длины волны в первом порядке дифракции для решетки со
следующими параметрами: 1 /
t = N
1
=1200 штрихов на 1 мм,
b/t = bN
1
= 0,8, угол блеска γ = 9
о
, 12
о
или 18
о
. Расчет проведен для уста-
новки с фиксированными направлениями лучей, угол между которыми
2
θ = 60
о
. Сканирование производится поворотом решетки относительно
падающего и дифрагированного лучей.
24
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 22
- 23
- 24
- 25
- 26
- …
- следующая ›
- последняя »
