Космическое материаловедение. Акишин А.И. - 116 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

МГУ | Москва

Составители: 

Рубрика: 

116
Рис.8. Процесс образования разрядной плазмы: 1 – алюминий;
2 – оксид алюминия; 3 – плазма; 4 – разрядный канал
Рис.9. Зависимость интенсивности разрядов в анодированном алюми-
нии в ионосферной плазме от величины отрицательного напряжения
Рис.8. Процесс образования разрядной плазмы: 1 – алюминий;
2 – оксид алюминия; 3 – плазма; 4 – разрядный канал




Рис.9. Зависимость интенсивности разрядов в анодированном алюми-
нии в ионосферной плазме от величины отрицательного напряжения




                               116

Страницы