ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
14
экспоненциального “хвоста” с усеченной гауссианой от дозы имплантации в
диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях 10, 20, 30, 40 и 50 кэВ .
7. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
нормирующего коэффициента при имплантации кремния ионами бора :
а) от дозы в диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях от 10 до 40 кэВ ;
б) от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
40 кэВ при дозах имплантации от
10
13
до 5·10
16
см
-2
.
8. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
нормирующего коэффициента при имплантации кремния ионами мышьяка :
а) от дозы в диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях от 10 до 50 кэВ ;
б) от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
50 кэВ при дозах имплантации от
10
13
до 5·10
16
см
-2
.
9. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
максимальной концентрации от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
50 кэВ
при внедрении ионов фосфора с дозой 3 мкКл/см
2
в разориентированную
кремниевую подложку с собственной проводимостью .
Расчёты проводить с учетом эффекта каналирования и нормировки на
дозу имплантации.
10. При имплантации ионами мышьяка собственной подложки кремния
рассчитать и построить семейство зависимостей координаты точки
сопряжения экспоненциального хвоста с неусеченной гауссианой от дозы
имплантации в диапазоне 10
13
÷5⋅10
16
см
-2
при энергиях 80, 120 и 150 кэВ .
4. Распределение ионно-имплантированных примесей
в однородной разориентированной мишени в приближении
трех параметров с учетом эффекта каналирования
При облучении разориентированной кристаллической мишени
моноэнергетическим пучком ионов с первоначальной энергией E
распределение концентрации N(x) по глубине x в приближении трех параметров
описывается сопряженной гауссианой .
В этом случае распределение ионно-имплантированных примесей с
учетом эффекта каналирования запишется в виде
2
2
2
12
2
/
0
2
1
12
2
00
0
2
1
12
()2
exp,0,
2
2()
()2
()exp,,
2
2()
()2
expexp,.
2
2()
m
m
P
PP
m
m
P
PP
m
P
PP
xRQ
xR
R
RR
xRQ
Nx RxR
R
RR
RRxRQ
xR
R
RR
π
π
λ
π
−
⋅−≤≤
∆
∆+∆
−
=⋅−≤≤
∆
∆+∆
−−
⋅−−≥
∆
∆+∆
(13)
График распределения ионно-имплантированных примесей в
разориентированной кристаллической мишени в приближении трех параметров
с учетом эффекта каналирования представлен на рис. 7.
14 экспоненциального “х воста” с усеченной гауссианой отд озы им плантации в д иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 приэнергиях 10, 20, 30, 40 и 50 кэВ . 7. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости норм ирую щ его коэф ф ициента приим плантациикрем ния ионам и бора: а) отд озы вд иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 при энергиях от10 д о 40 кэВ ; б) отэнергии им плантации в д иапазоне 5 ÷ 40 кэВ при д озах им плантации от 1013 д о 5·1016 см -2 . 8. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости норм ирую щ его коэф ф ициента приим плантациикрем ния ионам и м ы ш ьяка: а) отд озы вд иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 при энергиях от10 д о 50 кэВ ; б) отэнергии им плантации вд иапазоне5 ÷ 50 кэВ при д озах им плантации от 1013 д о 5·1016 см -2 . 9. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости м аксим альной концентрации отэнергии им плантации в д иапазоне 5 ÷ 50 кэВ при внед рении ионов ф осф ора с д озой 3 м кК л/см 2 в разориентированную крем ниевую под лож куссобственной провод им остью . Расчёты провод ить с учетом эф ф екта каналирования и норм ировки на д озуим плантации. 10. При им плантации ионам и м ы ш ьяка собственной под лож ки крем ния рассчитать и построить сем ейство зависим остей коорд инаты точки сопряж ения экспоненциального х воста с неусеченной гауссианой от д озы им плантации вд иапазоне10 13÷5⋅1016 см -2 приэнергиях 80, 120 и 150 кэВ . 4. Р аспр е де л е н и е и о н н о -и м пл ан ти р о ван н ы х пр и м е се й в о дн о р о дн о й р азо р и е н ти р о ван н о й м и ше н и в пр и бл и же н и и тр е х пар ам е тр о в с уче то м эффе кта кан ал и р о ван и я При облучении разориентированной кристаллической м иш ени м оноэнергетическим пучком ионов с первоначальной энергией E распред еление концентрации N(x) по глубинеx вприближ ении трех парам етров описы вается сопряж енной гауссианой. В этом случае распред еление ионно-им плантированны х прим есей с учетом эф ф екта каналирования запиш ется ввид е 2Q ( x − Rm )2 ⋅ exp − 2 , 0 ≤ x ≤ Rm , 2π (∆RP1 + ∆RP 2 ) 2∆RP 2 ( x − Rm ) 2 2Q N / ( x) = ⋅ exp − 2 , Rm ≤ x ≤ R0 , (13) 2π (∆RP1 + ∆RP 2 ) 2∆RP1 ( R − Rm ) 2 2Q x − R0 ⋅ exp − 0 exp − , x ≥ R0 . 2π ( ∆RP1 + ∆RP2 ) 2 ∆RP1 2 λ Граф ик распред еления ионно-им плантированны х прим есей в разориентированной кристаллической м иш ени в приближ ении трех парам етров сучетом эф ф екта каналирования пред ставлен на рис. 7.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 12
- 13
- 14
- 15
- 16
- …
- следующая ›
- последняя »