ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
14
экспоненциального “хвоста” с усеченной гауссианой от дозы имплантации в
диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях 10, 20, 30, 40 и 50 кэВ .
7. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
нормирующего коэффициента при имплантации кремния ионами бора :
а) от дозы в диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях от 10 до 40 кэВ ;
б) от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
40 кэВ при дозах имплантации от
10
13
до 5·10
16
см
-2
.
8. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
нормирующего коэффициента при имплантации кремния ионами мышьяка :
а) от дозы в диапазоне 10
13
÷
5·10
16
см
-2
при энергиях от 10 до 50 кэВ ;
б) от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
50 кэВ при дозах имплантации от
10
13
до 5·10
16
см
-2
.
9. Провести численные эксперименты по исследованию зависимости
максимальной концентрации от энергии имплантации в диапазоне 5
÷
50 кэВ
при внедрении ионов фосфора с дозой 3 мкКл/см
2
в разориентированную
кремниевую подложку с собственной проводимостью .
Расчёты проводить с учетом эффекта каналирования и нормировки на
дозу имплантации.
10. При имплантации ионами мышьяка собственной подложки кремния
рассчитать и построить семейство зависимостей координаты точки
сопряжения экспоненциального хвоста с неусеченной гауссианой от дозы
имплантации в диапазоне 10
13
÷5⋅10
16
см
-2
при энергиях 80, 120 и 150 кэВ .
4. Распределение ионно-имплантированных примесей
в однородной разориентированной мишени в приближении
трех параметров с учетом эффекта каналирования
При облучении разориентированной кристаллической мишени
моноэнергетическим пучком ионов с первоначальной энергией E
распределение концентрации N(x) по глубине x в приближении трех параметров
описывается сопряженной гауссианой .
В этом случае распределение ионно-имплантированных примесей с
учетом эффекта каналирования запишется в виде
2
2
2
12
2
/
0
2
1
12
2
00
0
2
1
12
()2
exp,0,
2
2()
()2
()exp,,
2
2()
()2
expexp,.
2
2()
m
m
P
PP
m
m
P
PP
m
P
PP
xRQ
xR
R
RR
xRQ
Nx RxR
R
RR
RRxRQ
xR
R
RR
π
π
λ
π
−
⋅−≤≤
∆
∆+∆
−
=⋅−≤≤
∆
∆+∆
−−
⋅−−≥
∆
∆+∆
(13)
График распределения ионно-имплантированных примесей в
разориентированной кристаллической мишени в приближении трех параметров
с учетом эффекта каналирования представлен на рис. 7.
14
экспоненциального “х воста” с усеченной гауссианой отд озы им плантации в
д иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 приэнергиях 10, 20, 30, 40 и 50 кэВ .
7. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости
норм ирую щ его коэф ф ициента приим плантациикрем ния ионам и бора:
а) отд озы вд иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 при энергиях от10 д о 40 кэВ ;
б) отэнергии им плантации в д иапазоне 5 ÷ 40 кэВ при д озах им плантации от
1013 д о 5·1016 см -2 .
8. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости
норм ирую щ его коэф ф ициента приим плантациикрем ния ионам и м ы ш ьяка:
а) отд озы вд иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 при энергиях от10 д о 50 кэВ ;
б) отэнергии им плантации вд иапазоне5 ÷ 50 кэВ при д озах им плантации от
1013 д о 5·1016 см -2 .
9. Провести численны е эксперименты по исслед ованию зависим ости
м аксим альной концентрации отэнергии им плантации в д иапазоне 5 ÷ 50 кэВ
при внед рении ионов ф осф ора с д озой 3 м кК л/см 2 в разориентированную
крем ниевую под лож куссобственной провод им остью .
Расчёты провод ить с учетом эф ф екта каналирования и норм ировки на
д озуим плантации.
10. При им плантации ионам и м ы ш ьяка собственной под лож ки крем ния
рассчитать и построить сем ейство зависим остей коорд инаты точки
сопряж ения экспоненциального х воста с неусеченной гауссианой от д озы
им плантации вд иапазоне10 13÷5⋅1016 см -2 приэнергиях 80, 120 и 150 кэВ .
4. Р аспр е де л е н и е и о н н о -и м пл ан ти р о ван н ы х пр и м е се й
в о дн о р о дн о й р азо р и е н ти р о ван н о й м и ше н и в пр и бл и же н и и
тр е х пар ам е тр о в с уче то м эффе кта кан ал и р о ван и я
При облучении разориентированной кристаллической м иш ени
м оноэнергетическим пучком ионов с первоначальной энергией E
распред еление концентрации N(x) по глубинеx вприближ ении трех парам етров
описы вается сопряж енной гауссианой.
В этом случае распред еление ионно-им плантированны х прим есей с
учетом эф ф екта каналирования запиш ется ввид е
2Q ( x − Rm )2
⋅ exp − 2 ,
0 ≤ x ≤ Rm ,
2π (∆RP1 + ∆RP 2 ) 2∆RP 2
( x − Rm ) 2
2Q
N / ( x) = ⋅ exp − 2
, Rm ≤ x ≤ R0 , (13)
2π (∆RP1 + ∆RP 2 ) 2∆RP1
( R − Rm ) 2
2Q x − R0
⋅ exp − 0 exp − , x ≥ R0 .
2π ( ∆RP1 + ∆RP2 ) 2 ∆RP1
2
λ
Граф ик распред еления ионно-им плантированны х прим есей в
разориентированной кристаллической м иш ени в приближ ении трех парам етров
сучетом эф ф екта каналирования пред ставлен на рис. 7.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 12
- 13
- 14
- 15
- 16
- …
- следующая ›
- последняя »
