Процессы микро- и нанотехнологии. Аверин И.А. - 7 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ПГУ | Пенза

Составители: 

Рубрика: 

Не предусмотрены.
9. Лабораторные занятия.
9.1. Основные темы:
1. Средства контроля чистоты производственных помещений ( 2 часа).
2. Средства откачки и методы контроля вакуума (2 часа).
3. Методы очистки и контроля поверхности пластин ( 2 часа).
4. Нанесение диэлектрических слоев методом термического испарения в вакууме ( 4
часа).
5. Диффузия примесей из твердого источника ( 4 часа).
6. Изучение методов микроконтактирования ( 4 часа).
7. Герметизация корпусов ИМС методом лазерной сварки ( 4 часа).
8. Разделение кремниевых подложек на лазерной установке «Квант-12» ( 4 часа).
9. Разделение пластин и подложек методом скрайбирования алмазным резцом ( 2 часа).
10. Микросварка выводов микросхем на лазерной установке «Квант-12» ( 4 часа).
11. Заключительное занятие ( 2 часа).
9.2. Форма проведения занятий.
Аудиторная и самостоятельная работа, консультации.
10. Семинарские занятия.
Не предусмотрены.
11. Курсовой проект (работа).
Не предусмотрен
12. Методические материалы.
12.1. Аверин И.А., Головяшкин А.Н., Лежнев Д.В., Тиллес В.Ф. Получение и исследование
свойств материалов микроэлектроники. Мет.указания по лабораторным работам. Пенз.
ГУ, 2001.- 56 с.
12.2. Головяшкин А.Н., Рябов П.В. Лазерные технологии
в микроэлектронике. Мет. Указания
к лабораторным работам. Пенз.ГУ, 1997.-23 с.
13. Учебная литература.
13.1. Основная.
1. Чистяков Ю.Д., Райнова Ю.П. Физико-химические основы технологии
микроэлектроники. М., Металлургия, 1979.- 238 с.
2. Пигучин И.Г., Таиров Ю.М. Технология полупроводниковых приборов. М., В.Ш., 1984.-
287 с.
3. Аброян И.А., Андронов А.Н
., Титов А.И.. Физические основы электронно-ионной
технологии.Учебное пособие для вузов М., В.Ш., 1984.-319 с.
4. Вендик С.Г., Горин Ю.Н., Попов В.Ф.. Корпускулярно-фотонная технология. М., В.Ш.,
1984.
5. Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов и
интегральных микросхем. М., В.Ш., 1986.
6. Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА. М., В.Ш., 1987.- 375 с.
7. Коледов Л.А. Технология и конструирование микросхем, микропроцессоров и
микросборок. Радио и связь, 1989.
8. Драгунов В.П., Неизвестный И.Г., Гридчин В.А. Основы наноэлектроники. Учебное
пособие для вузов. Новосибирск, Центр «Интеграция»,2000.-331 с. 
Не предусмотрены.

9. Лабораторные занятия.

9.1. Основные темы:

   1.    Средства контроля чистоты производственных помещений ( 2 часа).
   2.    Средства откачки и методы контроля вакуума (2 часа).
   3.    Методы очистки и контроля поверхности пластин ( 2 часа).
   4.    Нанесение диэлектрических слоев методом термического испарения в вакууме ( 4
часа).
   5.    Диффузия примесей из твердого источника ( 4 часа).
   6.    Изучение методов микроконтактирования ( 4 часа).
   7.    Герметизация корпусов ИМС методом лазерной сварки ( 4 часа).
   8.    Разделение кремниевых подложек на лазерной установке «Квант-12» ( 4 часа).
   9.    Разделение пластин и подложек методом скрайбирования алмазным резцом ( 2 часа).
   10.   Микросварка выводов микросхем на лазерной установке «Квант-12» ( 4 часа).
   11.   Заключительное занятие ( 2 часа).

9.2. Форма проведения занятий.
    Аудиторная и самостоятельная работа, консультации.

10. Семинарские занятия.
    Не предусмотрены.

11. Курсовой проект (работа).
    Не предусмотрен

12. Методические материалы.
12.1. Аверин И.А., Головяшкин А.Н., Лежнев Д.В., Тиллес В.Ф. Получение и исследование
      свойств материалов микроэлектроники. Мет.указания по лабораторным работам. Пенз.
      ГУ, 2001.- 56 с.
12.2. Головяшкин А.Н., Рябов П.В. Лазерные технологии в микроэлектронике. Мет. Указания
      к лабораторным работам. Пенз.ГУ, 1997.-23 с.

13. Учебная литература.

13.1. Основная.
1. Чистяков     Ю.Д.,   Райнова      Ю.П.    Физико-химические     основы  технологии
   микроэлектроники. М., Металлургия, 1979.- 238 с.
2. Пигучин И.Г., Таиров Ю.М. Технология полупроводниковых приборов. М., В.Ш., 1984.-
   287 с.
3. Аброян И.А., Андронов А.Н., Титов А.И.. Физические основы электронно-ионной
    технологии.Учебное пособие для вузов М., В.Ш., 1984.-319 с.
4. Вендик С.Г., Горин Ю.Н., Попов В.Ф.. Корпускулярно-фотонная технология. М., В.Ш.,
   1984.
5. Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов и
   интегральных микросхем. М., В.Ш., 1986.
6. Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА. М., В.Ш., 1987.- 375 с.
7. Коледов Л.А. Технология и конструирование микросхем, микропроцессоров и
   микросборок. Радио и связь, 1989.
8. Драгунов В.П., Неизвестный И.Г., Гридчин В.А. Основы наноэлектроники. Учебное
   пособие для вузов. Новосибирск, Центр «Интеграция»,2000.-331 с.

Страницы