ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
13.2. Дополнительная.
1. Брюэр Дж. Р.. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных
приборов. Радио и связь, 1984.
2. Броудай И., Мерей Дж.. Физические основы микротехнологии. М., Мир, 1985.- 494 с.
3. Риссел Х., руге И. Ионная имплантация. Пер. с нем. под ред. М.И. Гусева. М., радио и
связь, 1985.
4. Таруи Я. Основы технологии сверхбольших интегральных схем. М., Радио и связь, 1985.
5. Валиев К.А., Раков А.В. Физические основы субмикронной литографии. М.: Радио и
связь, 1985.
6. Дорфман В.Ф. Синтез твердотельных структур. М., Мир, 1986.
7. Технология СБИС, под ред. С.Зи, пер. с англ. под ред. Чистякова Ю.Д., М., Мир, 1986. (
2 тома).
8. Киреев В.Ю., Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для травления и
очистки материалов. М., Радио и связь, 1987.
9. Панфилов Ю.В., Рябов В.Т., Цветков Ю.Б. Оборудование производства интегральных
микросхем и промышленные роботы. М., Радио и связь, 1988.
10. Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры. Под ред Ченга Л., Плога К
. -М.,
Мир, 1989.
11. Моряков О.С. Устройство и наладка оборудования полупроводникового производства.
М., В.Ш., 1989.
12. Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств. Справочник. М., Радио и связь,
1991.
13. Высоковакуумное производство в микроэлектронной промышленности. Под ред.
Дюваль А. -М., Мир, 1991.
14. Моро У. Микролитография. М., Мир, 1991.
15. Автоматизация технологического оборудования микроэлектроники
. Под ред. Сазонова
А.А. М., В.Ш., 1991.
16. Пипко А.И., Плисковский В.Я. Основы вакуумной техники. М., Энергоиздат, 1992.
14. Переутверждение программы на очередной учебный год и регистрация изменений
Учебный
год
Учебная
группа
Решение
Кафедры
(№ протокола,
дата,
подпись
зав. кафедрой)
Решение выпус
кающей
кафедры
(№ протокола,
дата, подпись
зав. кафедрой)
Лектор
Изменение,
№
13.2. Дополнительная. 1. Брюэр Дж. Р.. Электронно-лучевая технология в изготовлении микроэлектронных приборов. Радио и связь, 1984. 2. Броудай И., Мерей Дж.. Физические основы микротехнологии. М., Мир, 1985.- 494 с. 3. Риссел Х., руге И. Ионная имплантация. Пер. с нем. под ред. М.И. Гусева. М., радио и связь, 1985. 4. Таруи Я. Основы технологии сверхбольших интегральных схем. М., Радио и связь, 1985. 5. Валиев К.А., Раков А.В. Физические основы субмикронной литографии. М.: Радио и связь, 1985. 6. Дорфман В.Ф. Синтез твердотельных структур. М., Мир, 1986. 7. Технология СБИС, под ред. С.Зи, пер. с англ. под ред. Чистякова Ю.Д., М., Мир, 1986. ( 2 тома). 8. Киреев В.Ю., Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. М., Радио и связь, 1987. 9. Панфилов Ю.В., Рябов В.Т., Цветков Ю.Б. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные роботы. М., Радио и связь, 1988. 10. Молекулярно-лучевая эпитаксия и гетероструктуры. Под ред Ченга Л., Плога К. -М., Мир, 1989. 11. Моряков О.С. Устройство и наладка оборудования полупроводникового производства. М., В.Ш., 1989. 12. Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств. Справочник. М., Радио и связь, 1991. 13. Высоковакуумное производство в микроэлектронной промышленности. Под ред. Дюваль А. -М., Мир, 1991. 14. Моро У. Микролитография. М., Мир, 1991. 15. Автоматизация технологического оборудования микроэлектроники. Под ред. Сазонова А.А. М., В.Ш., 1991. 16. Пипко А.И., Плисковский В.Я. Основы вакуумной техники. М., Энергоиздат, 1992. 14. Переутверждение программы на очередной учебный год и регистрация изменений Учебный Учебная Решение Решение выпус Лектор Изменение, год группа Кафедры кающей № (№ протокола, кафедры дата, (№ протокола, подпись дата, подпись зав. кафедрой) зав. кафедрой)