ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
53
Рис. 4.8. Формирование магнитостатической ловушки вблизи торца пер-
маллоевой аппликации, намагниченной полем Н
упр
: а – магнитное поле рассея-
ния аппликации; б – вертикальная компонента поля рассеяния
(возбуждению) МСЛ на пути его следования. Максимальная скорость МСЛ
V
мсл
= λf
кр
, где λ - период ДПС; f
кр
– критическая частота вращения Н
упр
.
Предельная скорость ЦМД v
цм д
определяется максимальной глубиной ло-
вушки Н
м
и фактором демпфирования среды – подвижностью
μ
w
границы
ЦМД
и оценивается по формуле
v
цмд
=
μ
w
Н
м
/2.
Таким образом
μ
w
является одним из основных динамических параметров
ЦМД–материалов, а, следовательно, и ЦМД устройств.
Пока ЦМД находятся в ловушке, v
цмд =
V
мсл.
Отсюда
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 70
- 71
- 72
- 73
- 74
- …
- следующая ›
- последняя »