ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
25
Работа № 4
ОПРЕДЕЛЕНИЕ ГЕНЕРАЦИОННО- РЕКОМБИНАЦИОННЫХ
ХАРАКТЕРИСТИК МДП – СТРУКТУР
Теоретическая часть
1. Неравновесное обеднение полупроводника
В результате внешнего воздействия (освещение, облучение,
импульсное электрическое поле) концентрация подвижных носителей
заряда в полупроводнике может оказаться больше или меньше
термодинамически равновесной . Тогда генерационно - рекомбинационные
процессы возвращают систему в новое стационарное состояние, или в
состояние нового термодинамического равновесия .
В МДП - структурах наибольший интерес представляет состояние
глубокого неравновесного обеднения . Оно возникает в полупроводнике в
условиях приложения к металлическому электроду (затвору ) импульса
достаточно большой амплитуды с полярностью , соответствующей
выведению из приповерхностной области полупроводника основных
носителей заряда или пилообразного напряжения той же полярности с
большой скоростью его изменения .
Рассмотрим для определённости полупроводник p-типа с полностью
ионизированными акцепторами, концентрация которых N
A
. Если к
полевому электроду МДП-структуры , изготовленной на основе такого
полупроводника, приложить импульс положительного напряжения , по
амплитуде больше порогового, то основные свободные носители, дырки, за
время максвелловской релаксации (τ
M
= ε
o
ε
S
/ σ ~ 10
-12
÷ 10
-11
c) почти
мгновенно уходят от поверхности вглубь объёма полупроводника и
вблизи границы раздела полупроводник - диэлектрик образуется
обеднённая область .
Однако инверсионный слой , экранирующий в равновесных
условиях электрическое поле в полупроводнике, сформируется не
сразу , так как процесс тепловой генерации электронно- дырочных пар
идёт сравнительно медленно, и для появления электронов в количестве,
достаточном для образования инверсионного слоя , требуется некоторое
время. В момент времени t = τ
M
МДП-структура будет находиться в
состоянии, которое можно назвать состоянием глубокого
неравновесного обеднения . Из-за отсутствия инверсионного слоя
положительный заряд на металлическом электроде при глубоком
обеднении может быть компенсирован только отрицательно
ионизированными атомами акцепторов , находящимися в области
обеднения , хотя напряжение на затворе выше порогового.
25 Р абота № 4 О П Р Е Д Е Л Е Н И Е Г Е Н Е Р А Ц И О Н Н О - Р Е КО М Б И Н А Ц И О Н Н Ы Х Х А Р А КТЕ Р И С ТИ К М Д П – С ТР У КТУ Р Теоретическая часть 1. Н еравн овесн оеобедн ен иеп олуп роводн ика В результате внеш него воздействия (освещ ение, об лучение, импульсное электрическое поле) концентрация подвиж ны х носителей заря да в полупроводнике мож ет оказаться б ольш е или меньш е термодинамически равновесной. Т огда генерационно-рекомб инационны е процессы возвращ аю т систему в новое стационарное состоя ние, или в состоя ниенового термодинамического равновесия . В М Д П - структурах наиб ольш ий интерес представля ет состоя ние глуб окого неравновесного об еднения . О но возникает в полупроводнике в условия х прилож ения к металлическому электроду (затвору) импульса достаточно б ольш ой амплитуды с поля рностью , соответствую щ ей вы ведению из приповерхностной об ласти полупроводника основны х носителей заря да или пилооб разного напря ж ения той ж е поля рности с б ольш ой скоростью его изменения . Рассмотрим для определённости полупроводник p-типа с полностью ионизированны ми акцепторами, концентрация которы х NA . Е сли к полевому электроду М Д П -структуры , изготовленной на основе такого полупроводника, прилож ить импульс полож ительного напря ж ения , по амплитудеб ольш епорогового, то основны есвоб одны еносители, ды рки, за время максвелловской релаксации (τM = εo εS / σ ~ 10-12 ÷ 10-11 c) почти мгновенно уходя т от поверхности вглуб ь об ъ ёма полупроводника и вб лизи границы раздела полупроводник - диэлектрик об разуется об еднённая об ласть. О днако инверсионны й слой, экранирую щ ий в равновесны х условия х электрическое поле в полупроводнике, сф ормируется не сразу, так как процесс тепловой генерации электронно-ды рочны х пар идёт сравнительно медленно, и для поя вления электронов в количестве, достаточном для об разования инверсионного слоя , треб уется некоторое время . В момент времени t = τM М Д П -структура б удет находиться в состоя нии, которое мож но назвать состоя нием глуб окого неравновесного об еднения . И з-за отсутствия инверсионного слоя полож ительны й заря д на металлическом электроде при глуб оком об еднении мож ет б ы ть компенсирован только отрицательно ионизированны ми атомами акцепторов, находя щ имися в об ласти об еднения , хотя напря ж ение на затворевы ш епорогового.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 23
- 24
- 25
- 26
- 27
- …
- следующая ›
- последняя »