Электрофизические методы исследования МДП-структур. Часть 2. Бормонтов Е.Н. - 25 стр.

UptoLike

Составители: 

25
Работа 4
ОПРЕДЕЛЕНИЕ ГЕНЕРАЦИОННО- РЕКОМБИНАЦИОННЫХ
ХАРАКТЕРИСТИК МДП СТРУКТУР
Теоретическая часть
1. Неравновесное обеднение полупроводника
В результате внешнего воздействия (освещение, облучение,
импульсное электрическое поле) концентрация подвижных носителей
заряда в полупроводнике может оказаться больше или меньше
термодинамически равновесной . Тогда генерационно - рекомбинационные
процессы возвращают систему в новое стационарное состояние, или в
состояние нового термодинамического равновесия .
В МДП - структурах наибольший интерес представляет состояние
глубокого неравновесного обеднения . Оно возникает в полупроводнике в
условиях приложения к металлическому электроду (затвору ) импульса
достаточно большой амплитуды с полярностью , соответствующей
выведению из приповерхностной области полупроводника основных
носителей заряда или пилообразного напряжения той же полярности с
большой скоростью его изменения .
Рассмотрим для определённости полупроводник p-типа с полностью
ионизированными акцепторами, концентрация которых N
A
. Если к
полевому электроду МДП-структуры , изготовленной на основе такого
полупроводника, приложить импульс положительного напряжения , по
амплитуде больше порогового, то основные свободные носители, дырки, за
время максвелловской релаксации (τ
M
= ε
o
ε
S
/ σ ~ 10
-12
÷ 10
-11
c) почти
мгновенно уходят от поверхности вглубь объёма полупроводника и
вблизи границы раздела полупроводник - диэлектрик образуется
обеднённая область .
Однако инверсионный слой , экранирующий в равновесных
условиях электрическое поле в полупроводнике, сформируется не
сразу , так как процесс тепловой генерации электронно- дырочных пар
идёт сравнительно медленно, и для появления электронов в количестве,
достаточном для образования инверсионного слоя , требуется некоторое
время. В момент времени t = τ
M
МДП-структура будет находиться в
состоянии, которое можно назвать состоянием глубокого
неравновесного обеднения . Из-за отсутствия инверсионного слоя
положительный заряд на металлическом электроде при глубоком
обеднении может быть компенсирован только отрицательно
ионизированными атомами акцепторов , находящимися в области
обеднения , хотя напряжение на затворе выше порогового.
                                       25

                                   Р абота № 4
     О П Р Е Д Е Л Е Н И Е Г Е Н Е Р А Ц И О Н Н О - Р Е КО М Б И Н А Ц И О Н Н Ы Х
                 Х А Р А КТЕ Р И С ТИ К М Д П – С ТР У КТУ Р

                            Теоретическая часть

             1. Н еравн овесн оеобедн ен иеп олуп роводн ика

       В результате внеш него воздействия (освещ ение, об лучение,
импульсное электрическое поле) концентрация подвиж ны х носителей
заря да в полупроводнике мож ет оказаться б ольш е или            меньш е
термодинамически равновесной. Т огда генерационно-рекомб инационны е
процессы возвращ аю т систему в новое стационарное состоя ние, или в
состоя ниенового термодинамического равновесия .
       В М Д П - структурах наиб ольш ий интерес представля ет состоя ние
глуб окого неравновесного об еднения . О но возникает в полупроводнике в
условия х прилож ения к металлическому электроду (затвору) импульса
достаточно б ольш ой амплитуды         с поля рностью , соответствую щ ей
вы ведению из приповерхностной об ласти полупроводника основны х
носителей заря да или пилооб разного напря ж ения той ж е поля рности с
б ольш ой скоростью его изменения .
       Рассмотрим для определённости полупроводник p-типа с полностью
ионизированны ми акцепторами, концентрация которы х NA . Е сли к
полевому электроду М Д П -структуры , изготовленной на основе такого
полупроводника, прилож ить импульс полож ительного напря ж ения , по
амплитудеб ольш епорогового, то основны есвоб одны еносители, ды рки, за
время максвелловской релаксации (τM = εo εS / σ ~ 10-12 ÷ 10-11 c) почти
мгновенно уходя т от поверхности вглуб ь об ъ ёма полупроводника и
вб лизи границы раздела полупроводник - диэлектрик об разуется
об еднённая об ласть.
       О днако инверсионны й слой, экранирую щ ий в равновесны х
условия х электрическое поле в полупроводнике, сф ормируется не
сразу, так как процесс тепловой генерации электронно-ды рочны х пар
идёт сравнительно медленно, и для поя вления электронов в количестве,
достаточном для об разования инверсионного слоя , треб уется некоторое
время . В момент времени t = τM М Д П -структура б удет находиться в
состоя нии,     которое      мож но     назвать    состоя нием глуб окого
неравновесного об еднения . И з-за отсутствия инверсионного слоя
полож ительны й заря д на металлическом          электроде при глуб оком
об еднении мож ет б ы ть компенсирован только отрицательно
ионизированны ми атомами акцепторов, находя щ имися в об ласти
об еднения , хотя напря ж ение на затворевы ш епорогового.