Наклонная ионная имплантация. Бормонтов Е.Н - 19 стр.

UptoLike

19
Nn
y*10
-7
m
-7
x*10
m
N(x,y)/Nm
Рис.6. Двумерный график нормированного бокового распределения под краем
защитной маски толщиной 2 мкм с образованием теневого участка при
наклонной имплантации под углом 40° относительно нормали к поверхности
кремниевой пластины ионами бора с энергией 60 кэВ и дозой 80 мкКл/см
2
в)
θ 10
π
180
:= d410
4
cm:= Q1506.25 10
12
cm
2
:=
Rp1.58610
5
× cm:=∆Rp4.9910
6
× cm:=∆Rt5.310
6
× cm:=
R Rp
2
cos θ
()
2
1
2
Rt
2
sin θ
()
2
⋅+:=
R't Rtsin θ
()
:= a''Rpcos θ
()
d+
()
tan θ
()
:=
                                                      19


                                          y*10 -7 m




                                                                                       -7
                                                                                  x*10 m




    N(x,y)/Nm



    Nn
Рис.6. Д вумерн ы й граф ик н ормирован н ого бок ового распределен ия под к раем
 защ итн ой маск и толщ ин ой 2 мк м с образован ием тен евого участк а при
 н ак лон н ой имплан тации под углом 40° отн оситель н о н ормали к поверхн ости
 к ремн иевой пластин ы ион ами борасэ н ергией 60 к э В и дозой 80 мк К л/см2

  в)
                 π                   −4                               12     −2
    θ := 10 ⋅             d := 4 ⋅ 10 cm          Q := 150 ⋅ 6.25 ⋅ 10 cm
                180
                          −5                           −6                         −6
    Rp := 1.586 × 10 cm          ∆Rp := 4.99 × 10 cm ∆Rt := 5.3 × 10 cm


       ∆R := ∆Rp ⋅ cos ( θ ) +            ∆Rt ⋅ sin ( θ )
                      2          2    1       2             2
                                      2

       ∆R't := ∆Rt ⋅ sin ( θ )   a'' := ( Rp ⋅ cos ( θ ) + d ) ⋅ tan ( θ )