ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
2
Методические указания составлены на кафедре физики полупроводников и  
микроэлектроники  Воронежского   государственного   университета  доцентом  
Быкадоровой   Г.В .,  доцентом   Гольдфарбом   В .А.,  кандидатом   технических наук 
Кожевниковым   В .А.  и инженером   Гашковым   А.Н.  под  редакцией   доктора 
технических наук Асессорова В .В .  
В   данных  методических  указаниях   рассмотрены  методы  расчета 
концентрационных  профилей   и   электрофизических  параметров  
полупроводниковых структур,  полученных диффузией . 
Каждый   раздел   содержит  физическую  и  математическую  модели 
технологического   процесса ,  задания и контрольные  вопросы .  Для ряда типовых 
задач   приведены  решения  с  соответствующим   программным   обеспечением , 
написанным   на  языке  Паскаль  и  ориентированным   на  использование 
персональных компьютеров типа IBM. 
Методические указания предназначены для проведения аудиторных занятий 
и самостоятельной   работы  студентов  физического   факультета 4  и  5  курсов  по 
специальности  014100 "Микроэлектроника  и  полупроводниковые  приборы"  и  
студентов 6  курса ,  обучающихся  в   магистратуре  по  направлению "Физика" 
(специализация "Полупроводниковые  приборы  и   микроэлектроника")  при  
изучении  спецкурсов  “Математическое  моделирование  технологических 
процессов  в  микроэлектронике”,  “Физические  основы  технологиии 
полупроводниковых  приборов  и   интегральных  схем”,  “Физические  основы 
микроэлектроники и наноэлектроники”. 
Печатается  по решению НМС физического   факультета от 14 июня 2002 г. 
                                                     2
        М етоди ческ и е у к азан и ясоставл ен ы н а к аф едре ф и зи к и пол у проводн и к ов и
м и к роэл ек трон и к и В орон ежск ого госу дарствен н ого у н и верси тета доцен том
Бык адоровой Г.В ., доцен том Гол ьдф арбом В .А., к ан ди датом техн и ческ и х н ау к
К ожевн и к овым В .А. и и н жен ером Гашк овым А.Н. под редак ци ей док тора
техн и ческ и хн ау к Асессорова В .В .
        В дан н ых м етоди ческ и х у к азан и ях рассм отрен ы м етоды расчета
к он цен траци он н ых           проф и л ей        и      эл ек троф и зи ческ и х      парам етров
пол у проводн и к овыхстру к ту р, пол у чен н ыхди ф ф у зи ей .
        К аждый         раздел содержи т ф и зи ческ у ю и              м атем ати ческ у ю м одел и
техн ол оги ческ ого процесса, задан и яи к он трол ьн ые вопросы. Дл яряда ти повых
задач при веден ы решен и я с соответству ю щи м програм м н ым обеспечен и ем ,
н апи сан н ым н а язык е Паск ал ь и ори ен ти рован н ым н а и спол ьзован и е
персон ал ьн ыхк ом пью теров ти па IBM.
        М етоди ческ и е у к азан и япредн азн ачен ы дл япроведен и яау ди торн ых зан яти й
и сам остоятел ьн ой работы сту ден тов ф и зи ческ ого ф ак у л ьтета 4 и 5 к у рсов по
специ ал ьн ости 014100 "М и к роэл ек трон и к а и пол у проводн и к овые при боры" и
сту ден тов 6 к у рса, обу чаю щи хся в м аги страту ре по н аправл ен и ю "Ф и зи к а"
(специ ал и заци я "Пол у проводн и к овые при боры и м и к роэл ек трон и к а") при
и зу чен и и спецк у рсов            “М атем ати ческ ое м одел и рован и е техн ол оги ческ и х
процессов        в       м и к роэл ек трон и к е”,   “Ф и зи ческ и е осн овы         техн ол оги и и
пол у проводн и к овых при боров и и н теграл ьн ых схем ”, “Ф и зи ческ и е осн овы
м и к роэл ек трон и к и и н ан оэл ек трон и к и ”.
       Печатаетсяпо решен и ю НМ С ф и зи ческ ого ф ак у л ьтета от 14 и ю н я2002 г.
