Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 165 стр.

UptoLike

165
распределения активных частиц по диаметру и длине реакционной
камеры. Особенно большая неравномерность (50 -100 %) наблюдается
в реакторе, изображенном на рис. 4.5.1,д, причиной чего является L -
образная конструкция реактора. Использование нескольких различных
камер (рис. 4.5.1,в) уменьшает неравномерность до 15 - 30%, но требует
применения мощного ВЧ генератора и усложняет систему согласования.
Рис. 4.5.1. Типичные конструкции реакторов для проведения процесса
РТ: 1 вакуумная камера, 2 линия подачи газа, 3 линия откачки,
4 перфорированный цилиндр, 5 - обрабатываемые подложки,
6 индуктор, 7 конденсаторные обкладки, 8 перфорированные
электроды, 9 система водяного охлаждения, 10 вкладыш,
11 дополнительные электроды, 12 магнит, 13 экран,
14 регулируемый затвор, 15 нагреватель
Значительное улучшение равномерности (до 0.5 - 1%) достигается
при индивидуальной обработке подложек с расположением их
перпендикулярно потоку протекающего через реактор газа. При
индивидуальной обработке разрядную камеру можно выполнить в виде
отдельного устройства, которое присоединяется к реакционной камере.
распределения активных частиц по диаметру и длине реакционной
камеры. Особенно большая неравномерность (∼50 -100 %) наблюдается
в реакторе, изображенном на рис. 4.5.1,д, причиной чего является L -
образная конструкция реактора. Использование нескольких различных
камер (рис. 4.5.1,в) уменьшает неравномерность до 15 - 30%, но требует
применения мощного ВЧ генератора и усложняет систему согласования.




Рис. 4.5.1. Типичные конструкции реакторов для проведения процесса
РТ: 1 – вакуумная камера, 2 – линия подачи газа, 3 – линия откачки,
4 – перфорированный цилиндр, 5 - обрабатываемые подложки,
6 – индуктор, 7 – конденсаторные обкладки, 8 – перфорированные
электроды, 9 – система водяного охлаждения, 10 – вкладыш,
11 – дополнительные электроды, 12 – магнит, 13 – экран,
14 – регулируемый затвор, 15 – нагреватель

     Значительное улучшение равномерности (до 0.5 - 1%) достигается
при индивидуальной обработке подложек с расположением их
перпендикулярно потоку протекающего через реактор газа. При
индивидуальной обработке разрядную камеру можно выполнить в виде
отдельного устройства, которое присоединяется к реакционной камере.

                                 165