Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 79 стр.

которое может быть использовано для оценки концентрации электро-
нов в положительном столбе при данном значении i и при величине
E , определяемой соотношением (2.34).
       Характерный для положительного столба разряда баланс заря-
женных частиц нарушается около анода. В прианодной области уход
положительных ионов по направлению к катоду не компенсируется
приходом их и со стороны анода возникает объёмный отрицательный
заряд, соответствующий анодному падению потенциала (области 7 и
8).
      Рис. 2.2.3 иллюстрирует типичные диапазоны концентраций и
энергий частиц, реализуемые в условиях тлеющего разряда постоян-
ного тока в различных областях разряда.
              KINETIC ENERGIES (eV)




                                      DENSITIES (cm-3)
Рис. 2.2.3. Диапазоны концентраций и энергий частиц, реализуемые в
условиях тлеющего разряда (Lieberman M. A., Lichtenberg A. J. Princi-
ples of plasma discharges and materials processing, John Wiley & Sons
Inc., New York, 1994): А – вторичные электроны, ускоренные в облас-
ти катодного падения потенциала, В – ионы, отраженные от катода, С
– ионы, бомбардирующие катод, D – электроны в области положи-
тельного столба, Е – возбужденные ионы и нейтральные частицы –
продукты плазмохимических реакций, F – ионы в области положи-
тельного столба и G - нейтральные невозбужденные частицы

     В настоящее время тлеющий разряд постоянного тока не нахо-
дит широкого технологического применения в производстве изделий
электронной техники. Областями его использования являются про-
цессы напыления металлических пленок (в диодных и триодных сис-
темах), а также некоторые специальные (спектроскопические, анали-
тические) приложения, где он служит инструментом атомизации

                                           79