Физико-химические основы электронно-вычислительных средств. Филатов Б.Г - 5 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

СПб ГУАП | Санкт-Петербург

Составители: 

Рубрика: 

5
ф0 стк
К
γγ γ γ γ γ,
t
RRRRR
=++++
(1.4)
где γ
R
= ∆R/R – относительная погрешность сопротивления резистора;
ф
К
γ
– погрешность коэффициента формы;
0
γ
R
– погрешность удельного
сопротивления резистивной пленки;
γ
t
R
– температурная погрешность
сопротивления;
ст
γ
R
– погрешность изменения сопротивления за счет
старения пленки;
к
γ
R
– погрешность, обусловленная сопротивлением кон-
тактных переходов. Основную долю в погрешность сопротивления ре-
зистора вносят
ф
К
γ
и
0
γ
R
.
Относительная погрешность коэффициента формы характеризует
невоспроизводимость резистора вследствие отклонения реальных зна-
чений длины и ширины резистора от расчетных величин, вызванного
технологическими погрешностями. При масочном методе изготовле-
ния погрешность
ф
К
γ
определяют: точность изготовления маски и сте-
пень ее износа; экранирование атомарного потока маской (из-за ее конеч-
ной толщины) при "косом" напылении; подпыление за границы,
определяемые маской, вследствие неплотного прилегания маски и т. п.
При использовании фотолитографического метода формирования рисун-
ка погрешность
ф
К
γ
обусловлена исходной точностью изготовления фо-
тошаблона, толщиной фоторезистивного слоя и качеством поверхности
подложки, режимом экспонирования и проявления фоторезиста, а также
травления резистивной пленки сквозь фогорезистивную маску и т. д.
Погрешность удельного поверхностного сопротивления пленки опре-
деляется градиентной и аппаратурной погрешностями [4].
Градиентная погрешность σ (R
0
) характеризует разброс значений R
0
на поверхности подложки и обусловлена неравномерностью и нестацио-
нарностью во времени диаграммы направленности испарителя, гради-
ентом температуры по поверхности подложки во времени в процессе
напыления и термостабилизации пленки, разным временем напыления
различных участков подложки, различной степенью чистоты поверхно-
сти подложки и т. п.
Аппаратурная погрешность m(R
0
) определяет невоспроизводимость
среднего по циклу значения R
0
и обусловлена погрешностью контрольно-
измерительной и регулирующей аппаратуры вакуумной установки на-
пыления.
Чтобы иметь достаточно полное представление об удельном повер-
хностном сопротивлении резистивной пленки, необходимо знать закон

Страницы