Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 91 стр.

UptoLike

Рубрика: 

91
держателе
с
клеммами
2
,
пролетный
анод
3
,
находящийся
под
потенциалом
земли
,
и
фокусирующий
электрод
4
.
Катод
изготовлен
в
виде
спирали
из
пяти
витков
вольфрамовой
проволоки
диаметром
0,6
мм
.
Отрицательное
высокое
напряжение
(6
кВ
или
12
кВ
)
подается
на
накальный
катод
.
Система
поворота
,
отклонения
и
электромагнитной
фокусировки
электронного
пучка
состоит
из
двух
электромагнитных
призм
.
Призма
5
осуществляет
поворот
электронного
пучка
,
сформированного
электронной
пушкой
,
на
угол
до
180˚,
направляя
его
в
тигель
с
испаряемым
материалом
,
призма
6
позволяет
перемещать
пучок
в
перпендикулярном
направлении
в
пределах
±15
мм
.
Такое
взаимное
положение
тигля
и
источника
электронов
обеспечивает
сохранение
удовлетворительных
вакуумных
условий
в
электронной
пушке
при
интенсивном
испарении
.
Через
патрубки
7
непрерывно
циркулирует
вода
для
охлаждения
тигля
8
.
Размер
сфокусированного
пятна
может
варьироваться
за
счет
изменения
положения
катода
от
(5-8)
мм
2
и
до
300
мм
2
.
Минимальный
размер
пятна
используется
для
испарения
таких
тугоплавких
веществ
,
как
оксиды
(SiO
2
, TiO
2
, ZrO
2
, Y
2
O
3
и
др
.)
при
температурах
выше
1500
0
С
,
максимальный
-
для
испарения
материалов
при
температурах
до
(400-700)
0
С
(
Те
, PbTe, PbF
2
и
др
.).
Метод
электронно
-
лучевого
испарения
широко
применяется
для
получения
оптических
пленок
в
вакууме
,
как
в
лабораторных
исследованиях
,
так
и
при
промышленном
изготовлении
интерференционных
покрытий
.
Основными
достоинствами
метода
являются
:
незначительное
взаимодействие
испаряемого
материала
с
материалом
водоохлаждаемого
тигля
,
возможность
испарения
большого
количества
материала
с
большой
скоростью
,
испарение
тугоплавких
материалов
.