Составители:
Рубрика:
92
Рис
. 2.7
Электронно
-
лучевой
испаритель
УЭЛИ
-1.
2.3. Формирование пленок постоянной толщины
При
реализации
на
практике
,
наряду
с
оптическими
и
эксплуатационными
свойствами
,
особое
внимание
уделяется
равномерности
осаждаемого
покрытия
по
толщине
,
а
при
промышленном
производстве
этот
фактор
становится
наиболее
актуальным
.
Возможность
получения
однородных
по
толщине
покрытий
на
подложках
значительной
площади
,
а
также
реализация
за
один
технологический
цикл
большого
количества
некрупных
оптических
деталей
с
идентичными
оптическими
характеристиками
существенно
расширяет
область
их
применения
и
снижает
себестоимость
.
В
процессе
вакуумного
осаждения
заданная
равномерность
по
толщине
осаждаемых
покрытий
достигается
за
счет
эксцентрического
расположения
испарителя
и
вращения
подложек
.
Обычно
применяют
схемы
одинарного
и
двойного
(
планетарного
)
вращения
.
Расчет
толщины
пленки
на
подложке
произвольной
формы
,
совершающей
планетарное
вращение
,
был
представлен
в
работе
[10].
Воспользуемся
полученными
в
[10]
выражениями
для
расчета
и
анализа
распределения
толщины
осаждаемого
слоя
на
вращающейся
подложке
.
Модель
для
расчета
распределения
толщины
пленки
описывается
следующим
образом
.
Предположим
,
что
испарение
вещества
происходит
из
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 90
- 91
- 92
- 93
- 94
- …
- следующая ›
- последняя »
