ВУЗ:
Составители:
41
Таким образом, можно указать на следующие преимущества
триодной системы распыления по сравнению с диодной:
1) достигаются более высокие скорости осаждения;
2) уменьшается пористость и повышается чистота пленок;
3) осуществляется более гибкое управление процессом осаждения;
4) полученные пленки обладают лучшей адгезией к подложке.
Экспериментальная установка, изображенная на рис.11, позволяет
получить металлические и диэлектрические пленки методом ионно-
плазменного распыления.
Рабочая камера (9) имеет форму цилиндра и выполнена из
нержавеющей стали. Сверху она закрывается стеклянным колпаком (6) с
резиновым уплотнением (8). В боковой камере (11) расположен
вольфрамовый термокатод (10), который разогревается пропусканием по
нему тока до температуры 2800° С, достаточной для требуемой эмиссии
электронов. Полый цилиндрический анод (3) изготовлен из нержавеющей
стали. Катодные выводы (12) и анод имеют водяное охлаждение,
необходимое для предохранения от перегрева.
Мишенью служат распыляемый материал (2). Она расположена в
нижней части рабочей камеры. Диаметр мишени равен 50 мм. С нерабочей
стороны она закрыта экраном (1), имеющим нулевой потенциал.
Расстояние между мишенью и экраном везде меньше длины темного
катодного пространства. Это необходимое условие для того, чтобы между
экраном и мишенью не зажегся разряд.
Устройство для крепления подложек состоит из диска (7), на
котором расположено несколько подложек. Диск приводится во вращение
электромотором (5). Это позволяет последовательно получать пленки на
всех подложках в едином цикле без разгерметизации вакуумной камеры.
Расстояние между мишенью и подложками составляет 90 мм.
Таким образом, можно указать на следующие преимущества
триодной системы распыления по сравнению с диодной:
1) достигаются более высокие скорости осаждения;
2) уменьшается пористость и повышается чистота пленок;
3) осуществляется более гибкое управление процессом осаждения;
4) полученные пленки обладают лучшей адгезией к подложке.
Экспериментальная установка, изображенная на рис.11, позволяет
получить металлические и диэлектрические пленки методом ионно-
плазменного распыления.
Рабочая камера (9) имеет форму цилиндра и выполнена из
нержавеющей стали. Сверху она закрывается стеклянным колпаком (6) с
резиновым уплотнением (8). В боковой камере (11) расположен
вольфрамовый термокатод (10), который разогревается пропусканием по
нему тока до температуры 2800° С, достаточной для требуемой эмиссии
электронов. Полый цилиндрический анод (3) изготовлен из нержавеющей
стали. Катодные выводы (12) и анод имеют водяное охлаждение,
необходимое для предохранения от перегрева.
Мишенью служат распыляемый материал (2). Она расположена в
нижней части рабочей камеры. Диаметр мишени равен 50 мм. С нерабочей
стороны она закрыта экраном (1), имеющим нулевой потенциал.
Расстояние между мишенью и экраном везде меньше длины темного
катодного пространства. Это необходимое условие для того, чтобы между
экраном и мишенью не зажегся разряд.
Устройство для крепления подложек состоит из диска (7), на
котором расположено несколько подложек. Диск приводится во вращение
электромотором (5). Это позволяет последовательно получать пленки на
всех подложках в едином цикле без разгерметизации вакуумной камеры.
Расстояние между мишенью и подложками составляет 90 мм.
41
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 39
- 40
- 41
- 42
- 43
- …
- следующая ›
- последняя »
