ВУЗ:
Составители:
45
Исследование основных закономерностей ионно-плазменного
распыления
Задание
1. В качестве мишени использовать диск из Fe, Ni, Cu, Mo, V (по заданию
преподавателя).
2. Получить зависимость скорости осаждения пленки (V
oc
) или толщины
(d) от следующих параметров:
a) d=f(t) при U
м
=const, I
р
= const, Р= const;
б) V
ос
=f(U
м
) при I
р
= const, Р= const, t = const;
в) V
ос
=f(I
p
) при U
м
=const, Р= const,t = const.
Параметры процесса распыления должны задаваться преподавателем
и находиться в следующих пределах:
время распыления t – 1 – 20 мин;
ток разряда I
p
- 200–600 мА
напряжение мишени U
м
– 800–3200 В;
давление газа Р – 70–90 дел.
В качестве плазмообразующего газа использовать аргон с содержанием
примесей 0,05%.
Порядок выполнения работы
Внимание!
Работать на установке, строго выполняя все пункты инструкции.
ТЕХНИКА БЕЗОПАСНОСТИ
1. Во избежание поражения электрическим током при включенной
установке не прикасаться к выводам анода и мишени.
2. При откачке вакуумной системы стеклянный колпак должен быть
накрыт защитной сеткой.
Получить стеклянные подложки, обработать их, как в предыдущих
Исследование основных закономерностей ионно-плазменного
распыления
Задание
1. В качестве мишени использовать диск из Fe, Ni, Cu, Mo, V (по заданию
преподавателя).
2. Получить зависимость скорости осаждения пленки (Voc) или толщины
(d) от следующих параметров:
a) d=f(t) при Uм=const, Iр= const, Р= const;
б) Vос=f(Uм) при Iр= const, Р= const, t = const;
в) Vос=f(Ip) при Uм=const, Р= const,t = const.
Параметры процесса распыления должны задаваться преподавателем
и находиться в следующих пределах:
время распыления t – 1 – 20 мин;
ток разряда Ip - 200–600 мА
напряжение мишени Uм – 800–3200 В;
давление газа Р – 70–90 дел.
В качестве плазмообразующего газа использовать аргон с содержанием
примесей 0,05%.
Порядок выполнения работы
Внимание!
Работать на установке, строго выполняя все пункты инструкции.
ТЕХНИКА БЕЗОПАСНОСТИ
1. Во избежание поражения электрическим током при включенной
установке не прикасаться к выводам анода и мишени.
2. При откачке вакуумной системы стеклянный колпак должен быть
накрыт защитной сеткой.
Получить стеклянные подложки, обработать их, как в предыдущих
45
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 43
- 44
- 45
- 46
- 47
- …
- следующая ›
- последняя »
