ВУЗ:
Составители:
28
исходное положение.
Рис. 3.3. Структура интегрального микрозеркала
с электростатической активацией
Электростатическая сила , возникающая между отклоняющим элек-
тродом и структурой микрозеркала, определяется следующим выражением:
ai
F
2
2
0
2
1
ai
U
d
ai
W
ai
L
ai
F
⋅⋅⋅
=
εε
, (3.1)
где
ε
– значение относительной диэлектрической проницаемости среды (для
воздуха 1=
ε
);
0
ε
– диэлектрическая проницаемость вакуума
(
); , – длина и ширина части отклоняющего элек-
трода, расположенной под структурой микрозеркала; – расстояние между от-
клоняющим электродом и структурой микрозеркала; – отклоняющее на-
пряжение.
мФ /1085.8
12
0
−
⋅=
ε
ai
L
ai
W
d
ai
U
В выражении (3.1) индекс i принимает значения 1, 2 для соответствую-
щих отклоняющих электродов.
Под действием силы структура микрозеркала притягивается к откло-
няющему электроду. По
закону Гука силе , действующей на микрозеркало,
будет противодействовать сила упругости , равная по модулю электроста-
тической силе и противоположная по направлению:
ai
F
ai
F
упр
F
yk
упр
F
ai
F
⋅
⋅
=
−= 2 . (3.2)
Жесткость пластин крепления определяется следующим выражением:
3
к
l
JE
k
⋅
=
, (3.3)
где – длина пластин крепления.
к
l
Под действием электростатической силы , пластины крепления будут
изгибаться по окружностям с центром в точке 0, радиусом изгиба R и углом из-
гиба γ (рис. 3.4) [11].
ai
F
Угол изгиба пластин крепления определяется выражением:
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 26
- 27
- 28
- 29
- 30
- …
- следующая ›
- последняя »