ВУЗ:
Составители:
30
Рис. 3.5. Зависимость отклонения структуры микрозеркала
x
от отклоняющего напряжения
ai
U
:
1 –
=2 мкм; 2 – =4 мкм; 3 – =6 мкм;
d d d
4 –
=8 мкм; 5 – =10 мкм
d d
Рис. 3.6. Интегральное двуосное микрозеркало,
выполненное по технологии объемной микрообработки
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 28
- 29
- 30
- 31
- 32
- …
- следующая ›
- последняя »