ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
146
В образцах с ограниченными размерами с понижением
температуры величина l
U
превзойдет характерный размер
кристалла D. В этом случае роль процессов переброса начнут
играть процессы столкновения фононов с поверхностью образца.
При этом существуют два диапазона температур, в которых
поведение фононной подсистемы качественно различается.
В области самых низких температур, когда D«l
N
,l
U
(
NN
vl
τ
~
=
- длина свободного пробега между нормальными
процессами) фононы пролетают от одной границы образца до
другой практически без столкновений (баллистический режим). В
этом случае
Dl
U
=
∗
(звезда означает, что это не истинные
процессы переброса, а столкновения с поверхностью), а величину
κ можно оценить по формуле (11.15), учтя, что c
V
∝T
3
(формула
(8.18)):
κ
∝
DT
3
. (11.20)
Эта зависимость имеет место при температурах Т, меньших
некоторого характерного значения Т
1,
которое находится из
условия
l
N
(T
1
)=D (11.21)
В области более высоких температур Т>Т
1
имеет место
соотношение l
N
«D«l
U
. В этом случае фонон на пути от одного
столкновения с поверхностью кристалла до другого участвует в
большом количестве нормальных процессов взаимодействия,
изменяя после каждого из них свою энергию и квазиимпульс. Его
движение от одной границы кристалла к другой становится
диффузионным, то есть его траектория похожа на траекторию
частицы в процессе
случайных блужданий (смотри рис.11.2).
Длина участка траектории, лежащего между двумя
столкновениями с поверхностью, и составляет величину
. Но в
силу сложного характера движения
∗
U
l
∗
U
l
»D.
146 В образцах с ограниченными размерами с понижением температуры величина lU превзойдет характерный размер кристалла D. В этом случае роль процессов переброса начнут играть процессы столкновения фононов с поверхностью образца. При этом существуют два диапазона температур, в которых поведение фононной подсистемы качественно различается. В области самых низких температур, когда D«lN,lU ( l N = v~τ N - длина свободного пробега между нормальными процессами) фононы пролетают от одной границы образца до другой практически без столкновений (баллистический режим). В этом случае lU∗ = D (звезда означает, что это не истинные процессы переброса, а столкновения с поверхностью), а величину κ можно оценить по формуле (11.15), учтя, что cV ∝ T3 (формула (8.18)): κ ∝ DT3. (11.20) Эта зависимость имеет место при температурах Т, меньших некоторого характерного значения Т1, которое находится из условия lN(T1)=D (11.21) В области более высоких температур Т>Т1 имеет место соотношение lN«D«lU. В этом случае фонон на пути от одного столкновения с поверхностью кристалла до другого участвует в большом количестве нормальных процессов взаимодействия, изменяя после каждого из них свою энергию и квазиимпульс. Его движение от одной границы кристалла к другой становится диффузионным, то есть его траектория похожа на траекторию частицы в процессе случайных блужданий (смотри рис.11.2). Длина участка траектории, лежащего между двумя ∗ столкновениями с поверхностью, и составляет величину lU . Но в силу сложного характера движения lU∗ »D.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 144
- 145
- 146
- 147
- 148
- …
- следующая ›
- последняя »