Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 20 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

К основным недостаткам метода электронно-лучевой литографии следует

отнести наличие определенных искажений (аберраций), которые в принципе

невозможно скорректировать никакими электро- и магнитооптическими сис-

темами, а также рассеяние электронов в слое резиста, что ограничивает мини-

мальные размеры элементов микрорисунка значением порядка 300 нм с чет-

костью краев около 10 нм.

а б

Рис. 16. Пример рентгенолитографической установки с вращающимся ано-

дом: а - вид сверху; б - вид спереди

Благодаря рассмотренным достоинствам, а также и по экономическим

соображениям, электронно-лучевая литография в настоящее время является

ведущим методом применительно к производству СБИС.

Еще более перспективным методом является ионная литография. В

принципе, данный метод аналогичен электронно-лучевой литографии, но вме-

сто электронных лучей используются направленные потоки ионов различных

элементов [3-5].

Методы формирования, фокусировки и отклонения луча ионов аналогич-

ны соответствующим методам для электронных пу чков. Основным преиму-

ществом является большая масса ионов, что позволяет избежать рассеяния

ионов в слое резиста и сократить размытость краев элементов рисунка при-

мерно на порядок по сравнению с электронно-лучевой литографией при ми-

нимальных размерах порядка 10 нм.

Дополнительным преимуществом ионной литографии является возмож-

ность управляемого травления после прорисовки рисунка.