Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 21 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

2.3. Электронно-лучевые уста новки

Метод электронно-лучевой литографии в настоящее время наиболее ши-

роко используется в процессе производства СБИС [3-5]. Рассмотрим принци-

пы построения, основные параметры и конструктивные особенности элек-

тронно-лучевых установок.

В качестве источников электронов, как уже упоминалось, используются

пушки с термо- или автоэмиссией.

Форма луча может быть различной (рис. 17).

а б в

Рис. 17. Схемы электронно-лучевых установок с различными формами луча:

1 - электронная пушка; 2, 4, 7 - электростатические и магнитные линзы;

3, 5 - диафрагмы, определяющие форму луча; 6 - катушки управления формой

луча; 8 - юстировочные катушки; 9 - отклоняющая система; 10 - обрабатывае-

мая пластина