Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 23 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

а б

Рис. 18. Системы сканирования электронного луча:

а - растровая; б - векторная

Перемещение осуществляется либо в режиме мультиплицирования (по-

шагового перемещения), когда после завершения формирования рисунка в

пределах одного поля образец перемещается в положение, соответствующее

следующему полю (рис. 19,а), либо в режиме непрерывного перемещения,

когда после завершения непрерывного перемещения образца в одном направ-

лении луч достигает границ области сканирования и образец перемещается на

заданное расстояние в перпендикулярном направлении, после чего возобнов-

ляется непрерывное перемещение в направлении, противоположном первона-

чальному (рис. 19,б).

а б

Рис. 19. Способы перемещения образца:

а - мультиплицирование; б - непрерывное перемещение

Важную роль играет выбор оптимального диаметра луча. Если луч слиш-

ком тонкий, ток луча уменьшается, в результате чего возрастает время экспо-

нирования. Поэтому приходится идти на компромисс в выборе тока и диамет-