Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 22 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ТТИ ЮФУ | Таганрог

Составители: 

Рубрика: 

24
Если луч фокусируется в точку, распределение плотности тока в луче в
радиальном направлении является гауссовским. При этом линия требуемой
ширины образуется посредством многократного прохода луча по соседним
траекториям (рис. 17,а).
В ряде электронно-лучевых установок используется специальная диа-
фрагма, определяющая форму луча. Пр и этом изображение диафрагмы в
уменьшенном масштабе проецируется на плоскость, в которой расположен
образец (рис. 17,б).
Для получения луча с изменяемой формой используют две диафрагмы
определенного вида. Изображение первой диафрагмы проецируется на вто-
рую. Между ними расположены управляющие электроды, при помощи кото-
рых осуществляется смещение изображения первой диафрагмы на второй, что
приводит к изменению формы луча (рис. 17,в).
Важным элементом электронно-лучевой установки является система ска-
нирования луча. В настоящее время используют две системы сканирования:
растровую и векторную.
В случае растрового сканирования луч проходит всю область сканирова-
ния, независимо от наличия или отсутствия рисунка, но освещает только об-
ласти, предназначенные для засветки. При сканировании остальных областей
происходит гашение луча (рис. 18,а).
При векторном сканировании луч перемещается и освещает пластину
только в пределах участков, соответствующих формируемому рисунку. Гаше-
ние луча осуществляется лишь при переходе от одного элемента рисунка к
другому (рис. 18,б).
При векторном сканировании луч перемещается и освещает пластину
только в пределах участков, соответствующих формируемому рисунку. Гаше-
ние луча осуществляется лишь при переходе от одного элемента рисунка к
другому (рис. 18,б).
Поле сканирования имеет форму квадрата со стороной не более 20 - 50
мм, в противном случае при отклонении луча возникают заметные искажения.
Следовательно, для формирования рисунков на поверхности пластин или
шаблонов, диаметр или сторона которых превышают 100 - 125 мм, необходи-
мо после завершения формирования рисунка в пределах одного поля переме-
щать образец.

Страницы