Управление техническими системами (на примере управления тепловыми объектами). Щегольков А.В - 24 стр.

UptoLike

24
Лабораторная работа 4
АВТОМАТИЧЕСКОЕ РЕГУЛИРОВАНИЕ
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ
ДВУХПОЗИЦИОННОГО ЗАКОНА УПРАВЛЕНИЯ
Цель работы: овладение навыками проектирования систем авто-
матического регулирования с использованием двухпозиционного зако-
на управления; определение параметров настройки двухпозиционного
датчика-регулятора.
Приборы и материалы: резистивный нагреватель; ЛАТР; муль-
тиметр G980M с термопарой ХК; индикатор включения нагревателя;
биметаллический датчик.
Методические указания
Регулирование с использованием позиционных законов является
одним из наиболее распространённых способов автоматического регу-
лирования. Причиной широкого применения систем позиционного ре-
гулирования являются простота их реализации, высокая надёжность в
эксплуатации и невысокая стоимость технических средств, входящих в
состав этих систем. Область применения подобных систем ограничи-
вается областями, где не требуется высокое качество регулирования
технологических параметров. Особенно широкое распространение
позиционные регуляторы получили для регулирования температуры
электрических печей сопротивления и других установок с электро-
обогревом. Они используются также для регулирования таких пара-
метров, как: давление, влажность, уровень, величина рН, концентрация
веществ в газообразных и жидких средах и т.д.
Схемы двухпозиционного регулирования подразделяются на:
двухпозиционное регулирование с бесконечно большой чувст-
вительностью (на практике применяется редко);
двухпозиционное регулирование с гистерезисом;
прерывистое двухпозиционное регулирование;
двухпозиционно-статическое регулирование;
двухпозиционное регулирование с дополнительным воздейст-
вием по первой производной.
Существуют также схемы трёх-, четырёхпозиционного (n-пози-
ционного) регулирования.
Двухпозиционным автоматическим регулированием называется
такое регулирование, при котором управляющее воздействие имеет
только два устойчивых положений. Следовательно, приток U вещества