ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
35
• Температурные коэффициенты линейного расширения подложки и пленок
должны быть предельно согласованы.
• Химическая инертность к осаждаемым веществам и травителям.
• Физическая и химическая стойкость при нагреве до высоких температур.
• Незначительное газовыделение в вакууме.
• Хорошая адгезия с осаждаемой пленкой.
• Высокий коэффициент теплопроводности.
• Хорошая полируемость.
• Низкая стоимость.
В полной мере перечисленным требованиям не удовлетворяет ни одна
подложка.
Некоторые требования находятся в противоречии друг к другу, например,
низкая стоимость и чистота обработки поверхности подложки, поэтому выбор
подложки основан на компромиссном решении.
Характеристика полупроводниковых пластин
Полупроводниковая пластина, являясь частью конструкции микросхемы,
выполняет функции механического основания и теплоотвода.
К полупроводниковым пластинам предъявляются следующие требования:
• стойкость к химическому воздействию окружающей среды;
• монокристаллическая структура;
• однородность распределения легирующих примесей в объеме
монокристалла;
• устойчивость к химическим реагентам;
• механическая прочность;
• термостойкость;
• устойчивость к старению и долговечность.
Подробнее о материалах, применяемых в качестве подложек интегральных
микросхем можно ознакомится в описании к лабораторной работе “Материалы для
полупроводниковых интегральных гибридных микросхем”.
Конструкция и топология элементной базы полупроводниковых ИМС
Основными пассивными элементами ГИС являются пленочные резисторы,
конденсаторы, спирали индуктивностей, проводники и контактные площадки. К
элементам полупроводниковых ИМС относят: резистор, конденсатор, диод,
биполярный транзистор, полевой транзистор (МОП или МДП) и некоторые другие.
Кроме этого, при проектировании полупроводниковых ИМС применяют
вспомогательные элементы: диффузионные перемычки, контактные площадки и
фигуры совмещения (будут рассмотрены далее).
Резисторы.
На рис. 1 приведены типичные конструкции резисторов. Наиболее
распространены резисторы прямоугольной формы как самые простые в
изготовлении.
Тонкопленочные резисторы с большим номинальным сопротивлением
изготавливают в виде меандра или составных полосок в зависимости от метода
формирования конфигураций элементов. Наиболее простые по форме -
толстопленочные резисторы, но они в процессе изготовления для получения
заданной точности требуют лазерной подгонки. Они формируются в последнюю
очередь и располагаются поверх контактных площадок в отличие от
тонкопленочных резисторов.
• Температурные коэффициенты линейного расширения подложки и пленок
должны быть предельно согласованы.
• Химическая инертность к осаждаемым веществам и травителям.
• Физическая и химическая стойкость при нагреве до высоких температур.
• Незначительное газовыделение в вакууме.
• Хорошая адгезия с осаждаемой пленкой.
• Высокий коэффициент теплопроводности.
• Хорошая полируемость.
• Низкая стоимость.
В полной мере перечисленным требованиям не удовлетворяет ни одна
подложка.
Некоторые требования находятся в противоречии друг к другу, например,
низкая стоимость и чистота обработки поверхности подложки, поэтому выбор
подложки основан на компромиссном решении.
Характеристика полупроводниковых пластин
Полупроводниковая пластина, являясь частью конструкции микросхемы,
выполняет функции механического основания и теплоотвода.
К полупроводниковым пластинам предъявляются следующие требования:
• стойкость к химическому воздействию окружающей среды;
• монокристаллическая структура;
• однородность распределения легирующих примесей в объеме
монокристалла;
• устойчивость к химическим реагентам;
• механическая прочность;
• термостойкость;
• устойчивость к старению и долговечность.
Подробнее о материалах, применяемых в качестве подложек интегральных
микросхем можно ознакомится в описании к лабораторной работе “Материалы для
полупроводниковых интегральных гибридных микросхем”.
Конструкция и топология элементной базы полупроводниковых ИМС
Основными пассивными элементами ГИС являются пленочные резисторы,
конденсаторы, спирали индуктивностей, проводники и контактные площадки. К
элементам полупроводниковых ИМС относят: резистор, конденсатор, диод,
биполярный транзистор, полевой транзистор (МОП или МДП) и некоторые другие.
Кроме этого, при проектировании полупроводниковых ИМС применяют
вспомогательные элементы: диффузионные перемычки, контактные площадки и
фигуры совмещения (будут рассмотрены далее).
Резисторы.
На рис. 1 приведены типичные конструкции резисторов. Наиболее
распространены резисторы прямоугольной формы как самые простые в
изготовлении.
Тонкопленочные резисторы с большим номинальным сопротивлением
изготавливают в виде меандра или составных полосок в зависимости от метода
формирования конфигураций элементов. Наиболее простые по форме -
толстопленочные резисторы, но они в процессе изготовления для получения
заданной точности требуют лазерной подгонки. Они формируются в последнюю
очередь и располагаются поверх контактных площадок в отличие от
тонкопленочных резисторов.
35
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 33
- 34
- 35
- 36
- 37
- …
- следующая ›
- последняя »
