ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
35
• Температурные коэффициенты линейного расширения подложки и пленок
должны быть предельно согласованы.
• Химическая инертность к осаждаемым веществам и травителям.
• Физическая и химическая стойкость при нагреве до высоких температур.
• Незначительное газовыделение в вакууме.
• Хорошая адгезия с осаждаемой пленкой.
• Высокий коэффициент теплопроводности.
• Хорошая полируемость.
• Низкая стоимость.
В полной мере перечисленным требованиям не удовлетворяет ни одна
подложка.
Некоторые требования находятся в противоречии друг к другу, например,
низкая стоимость и чистота обработки поверхности подложки, поэтому выбор
подложки основан на компромиссном решении.
Характеристика полупроводниковых пластин
Полупроводниковая пластина, являясь частью конструкции микросхемы,
выполняет функции механического основания и теплоотвода.
К полупроводниковым пластинам предъявляются следующие требования:
• стойкость к химическому воздействию окружающей среды;
• монокристаллическая структура;
• однородность распределения легирующих примесей в объеме
монокристалла;
• устойчивость к химическим реагентам;
• механическая прочность;
• термостойкость;
• устойчивость к старению и долговечность.
Подробнее о материалах, применяемых в качестве подложек интегральных
микросхем можно ознакомится в описании к лабораторной работе “Материалы для
полупроводниковых интегральных гибридных микросхем”.
Конструкция и топология элементной базы полупроводниковых ИМС
Основными пассивными элементами ГИС являются пленочные резисторы,
конденсаторы, спирали индуктивностей, проводники и контактные площадки. К
элементам полупроводниковых ИМС относят: резистор, конденсатор, диод,
биполярный транзистор, полевой транзистор (МОП или МДП) и некоторые другие.
Кроме этого, при проектировании полупроводниковых ИМС применяют
вспомогательные элементы: диффузионные перемычки, контактные площадки и
фигуры совмещения (будут рассмотрены далее).
Резисторы.
На рис. 1 приведены типичные конструкции резисторов. Наиболее
распространены резисторы прямоугольной формы как самые простые в
изготовлении.
Тонкопленочные резисторы с большим номинальным сопротивлением
изготавливают в виде меандра или составных полосок в зависимости от метода
формирования конфигураций элементов. Наиболее простые по форме -
толстопленочные резисторы, но они в процессе изготовления для получения
заданной точности требуют лазерной подгонки. Они формируются в последнюю
очередь и располагаются поверх контактных площадок в отличие от
тонкопленочных резисторов.
• Температурные коэффициенты линейного расширения подложки и пленок должны быть предельно согласованы. • Химическая инертность к осаждаемым веществам и травителям. • Физическая и химическая стойкость при нагреве до высоких температур. • Незначительное газовыделение в вакууме. • Хорошая адгезия с осаждаемой пленкой. • Высокий коэффициент теплопроводности. • Хорошая полируемость. • Низкая стоимость. В полной мере перечисленным требованиям не удовлетворяет ни одна подложка. Некоторые требования находятся в противоречии друг к другу, например, низкая стоимость и чистота обработки поверхности подложки, поэтому выбор подложки основан на компромиссном решении. Характеристика полупроводниковых пластин Полупроводниковая пластина, являясь частью конструкции микросхемы, выполняет функции механического основания и теплоотвода. К полупроводниковым пластинам предъявляются следующие требования: • стойкость к химическому воздействию окружающей среды; • монокристаллическая структура; • однородность распределения легирующих примесей в объеме монокристалла; • устойчивость к химическим реагентам; • механическая прочность; • термостойкость; • устойчивость к старению и долговечность. Подробнее о материалах, применяемых в качестве подложек интегральных микросхем можно ознакомится в описании к лабораторной работе “Материалы для полупроводниковых интегральных гибридных микросхем”. Конструкция и топология элементной базы полупроводниковых ИМС Основными пассивными элементами ГИС являются пленочные резисторы, конденсаторы, спирали индуктивностей, проводники и контактные площадки. К элементам полупроводниковых ИМС относят: резистор, конденсатор, диод, биполярный транзистор, полевой транзистор (МОП или МДП) и некоторые другие. Кроме этого, при проектировании полупроводниковых ИМС применяют вспомогательные элементы: диффузионные перемычки, контактные площадки и фигуры совмещения (будут рассмотрены далее). Резисторы. На рис. 1 приведены типичные конструкции резисторов. Наиболее распространены резисторы прямоугольной формы как самые простые в изготовлении. Тонкопленочные резисторы с большим номинальным сопротивлением изготавливают в виде меандра или составных полосок в зависимости от метода формирования конфигураций элементов. Наиболее простые по форме - толстопленочные резисторы, но они в процессе изготовления для получения заданной точности требуют лазерной подгонки. Они формируются в последнюю очередь и располагаются поверх контактных площадок в отличие от тонкопленочных резисторов. 35
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 33
- 34
- 35
- 36
- 37
- …
- следующая ›
- последняя »