Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 1. Шутов Д.А - 36 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

36
диффузионный в базовом слое
диффузионный в эмиттерном слое
пинч-резистор на базовом слое
тонкопленочный резистор
толстопленочный резистор
1 - резистор; 2 - контактная площадка; 3- подложка; А - участок подгонки
Тонкопленочные резисторы
сложной формы: а) составные полоски; б) меандр; в, г)
подстроенные. 1 - проволочная перемычка; 2 - участок реза.
Рис. 1. Конструкции резисторов.
а
в
б
г 
     диффузионный в базовом слое            диффузионный в эмиттерном слое




                        пинч-резистор на базовом слое




       тонкопленочный резистор                  толстопленочный резистор
    1 - резистор; 2 - контактная площадка; 3- подложка; А - участок подгонки


                            а                 б




                            в                г



Тонкопленочные резисторы сложной формы: а) составные полоски; б) меандр; в, г)
          подстроенные. 1 - проволочная перемычка; 2 - участок реза.
                          Рис. 1. Конструкции резисторов.

                                       36

Страницы