ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
193
частиц в луче, что трудно обеспечить из-за стохастических свойств распределе-
ния энергии частиц по сечению луча.
Принципы построения и структура установок для ионной имплантации
сходны с установками для электронно-лучевой литографии. В частности схема
установки для ионной имплантации содержит (см. рис. 21.2) электронно-
оптическую систему, включающую электронную пушку (1), устройства блоки-
рования
(отключения) луча (2), системы фокусировки (3) и отклонения (4) луча,
рабочий стол (5) с датчиком (6) положения. В состав вспомогательных систем
входят: источник (7) питания (для подачи ускоряющего напряжения); вакуум-
ные системы (8) (для откачки электронной пушки); фокусирующую систему
(9), устройство (10) загрузки и выгрузки; и рабочую камеру (11) с загрузочным
шлюзом. Система управления включает подсистемы: блокирования луча (12),
данные о
моментах срабатывания которого хранятся в запоминающем устрой-
стве (18) и обновляются по мере необходимости; синхронизации и сканирова-
ния (13); генератор развертки (14); усилитель (15) системы отклонения луча;
устройство (16) управления приводом стола; интерференционный датчик (17)
положения стола; устройство (19) сравнения; устройство (20) хранения отдель-
ных кадров операций ТП; интерфейс (21) и мини-ЭВМ (22).
7
8
9
10
11
1
2
3
4
6
12
13
14
15
16
17
18
19
5
20
Вспомогательные
подсистемы
Электронно-
оптическая
подсистема
Подсистема управления
21
22
Рис. 21.2.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 191
- 192
- 193
- 194
- 195
- …
- следующая ›
- последняя »
