ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
80
мишени
пучком
ускоренных
ионов
,
сформированным
в
автономном
ионном
ис
-
точнике
,
и
собственно
ионно
-
плазменное
распыление
,
при
котором
мишень
яв
-
ляется
одним
из
электродов
в
газоразрядной
камере
и
ее
бомбардировка
осуще
-
ствляется
ионами
,
образующимися
в
результате
газового
разряда
.
Для
распыления
мишени
используются
ионы
инертных
газов
(
обычно
ар
-
гон
высокой
чистоты
).
Источником
ионов
служит
либо
самостоятельный
тлеющий
разряд
,
либо
плазма
несамостоятельного
разряда
(
дугового
или
высо
-
кочастотного
).
В
настоящее
время
в
производстве
применяют
различные
про
-
цессы
распыления
,
отличающиеся
:
−
характером
питающего
напряжения
(
постоянное
,
переменное
,
высоко
-
частотное
);
−
способом
возбуждения
и
поддержания
разряда
(
автоэлектронная
эмис
-
сия
,
термоэмиссия
,
магнитное
поле
,
электрическое
высокочастотное
поле
);
−
количеством
электродов
в
газоразрядной
камере
(
двухэлектродные
,
трехэлектродные
и
многоэлектродные
системы
).
Рассмотрим
наиболее
широко
используемые
ионно
-
плазменные
методы
получения
тонких
пленок
.
Катодное распыление
Конструкция
установки
для
катодного
распыления
,
изображенной
на
рис
. 4.4,
состоит
из
газоразрядной
камеры
1,
в
которую
вводится
рабочий
газ
(
обычно
аргон
)
под
давлением
1 − 10
Па
;
катода
2,
выполняющего
функцию
распыляемой
мишени
;
анода
3
и
закрепленной
на
ней
подложки
4.
Между
ано
-
дом
и
катодом
подается
постоянное
напряжение
величиной
несколько
кило
-
вольт
,
обеспечивающее
создание
в
межэлектродном
пространстве
электриче
-
ского
поля
напряженностью
порядка
0,5
кВ
/
см
.
Анод
заземлен
,
а
отрицательное
напряжение
к
катоду
подается
через
изолятор
5.
Чтобы
исключить
загрязнение
стеклянного
колпака
камеры
,
вблизи
катода
закрепляют
экран
6.
Электрическое
поле
,
существующее
между
катодом
и
анодом
,
ускоряет
электроны
,
образующиеся
в
межэлектродном
про
-
странстве
в
результате
фотоэмиссии
из
катода
,
ав
-
тоэлектронной
(
полевой
)
эмиссии
,
воздействия
космического
излучения
или
других
причин
.
Если
энергия
электронов
превышает
энергию
иониза
-
ции
молекул
рабочего
газа
,
то
в
результате
столк
-
новения
электронов
с
молекулами
газа
возникает
газовый
разряд
,
то
есть
образуется
газоразрядная
плазма
.
Для
того
чтобы
электрон
мог
набрать
не
-
обходимую
для
ионизации
газа
энергию
,
ему
тре
-
буется
обеспечить
минимально
необходимую
длину
свободного
пробега
.
Только
при
этом
усло
-
вии
электрон
,
двигаясь
без
столкновений
,
спосо
-
бен
увеличить
свою
энергию
до
нужной
величины
.
Рис.4.4. Схема установки для
катодного распыления
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 78
- 79
- 80
- 81
- 82
- …
- следующая ›
- последняя »
