ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
81
Однако
,
если
длина
свободного
пробега
электронов
становится
сравнимой
с
расстоянием
между
катодом
и
анодом
,
то
основная
часть
электронов
будет
пролетать
межэлектродное
пространство
без
столкновений
с
молекулами
рабо
-
чего
газа
.
Газоразрядная
плазма
погаснет
.
Эти
два
фактора
и
определяют
ниж
-
ний
и
верхний
пределы
давлений
газа
в
камере
.
Образующаяся
в
результате
газового
разряда
плазма
состоит
из
электронов
,
ионов
и
нейтральных
молекул
рабочего
газа
.
Ионы
под
воздействием
электрического
поля
ускоряются
и
бомбардируют
катод
-
мишень
.
Если
энергия
ионов
превышает
энергию
связи
атомов
мишени
,
то
происходит
ее
распыление
.
Кроме
выбивания
атомов
с
поверхности
мишени
,
ионы
способны
выбить
из
нее
вторичные
электроны
(
вторичная
электронная
эмиссия
).
Эти
вторичные
электроны
ускоряются
и
ионизируют
молекулы
рабо
-
чего
газа
;
образующиеся
при
этом
ионы
бомбардируют
мишень
,
вызывая
вто
-
ричную
электронную
эмиссию
,
и
процесс
повторяется
.
Таким
образом
,
газовый
разряд
поддерживает
сам
себя
и
поэтому
называется
самостоятельным тлею-
щим разрядом
.
С
повышением
тока
,
протекающего
через
газоразрядную
плазму
,
увели
-
чивается
плотность
ионного
потока
и
интенсивность
распыления
мишени
.
При
некоторой
плотности
потока
,
зависящей
от
условий
охлаждения
мишени
,
начи
-
нает
проявляться
термоэлектронная
эмиссия
.
Ток
в
разряде
возрастает
,
а
сам
разряд
становится
несамостоятельным
,
приобретая
характер
дугового
разряда
.
Для
предотвращения
перехода
самостоятельного
тлеющего
разряда
в
дуговой
высоковольтный
источник
питания
должен
иметь
ограничения
по
мощности
,
а
мишень
интенсивно
охлаждаться
.
Для
описания
процессов
катодного
распыления
мишени
используют
мо
-
дели
,
основанные
на
двух
механизмах
.
Согласно
первому
механизму
распылен
-
ные
атомы
возникают
в
результате
сильного
локального
разогрева
поверхности
мишени
самим
падающим
ионом
(
модель
«
горячего
пятна
»)
или
быстрой
вто
-
ричной
частицей
(
модель
«
теплового
клина
»).
Второй
механизм
состоит
в
пе
-
редаче
импульса
падающего
иона
атомам
решетки
материала
мишени
,
которые
,
в
свою
очередь
,
могут
передать
импульс
другим
атомам
решетки
,
вызвав
тем
самым
каскад
столкновений
(
модель
столкновений
).
Основной
характеристикой
эффективности
процесса
распыления
являет
-
ся
коэффициент
распыления
К
р
,
определяемый
отношением
количества
выби
-
тых
атомов
N
ат
к
количеству
бомбардирующих
мишень
ионов
N
ион
:
По
существу
коэффициент
распыления
представляет
собой
среднее
число
ато
-
мов
мишени
,
выбитых
одним
ионом
.
Коэффициент
распыления
зависит
от
энергии
ионов
Е
и
,
его
массы
(
рода
рабочего
газа
),
материала
мишени
и
в
некоторой
степени
от
ее
температуры
и
состояния
поверхности
,
угла
бомбар
-
.
ион
N
ат
N
р
К
=
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 79
- 80
- 81
- 82
- 83
- …
- следующая ›
- последняя »
