Получение и исследования наноструктур. Вальднер В.О - 85 стр.

                             85

устанавливается самостоятельный дуговой СВЧ разряд. Он обра-
зуется при пониженном давлении газа в тех частях плазменного
реактора, где сосредоточено максимальное электрическое поле.
     При низких давлениях свечение носит диффузный, одно-
родный характер.
     Зависимость напряжённости зажигания СВЧ разряда от дав-
ления газа имеет минимум (рис. 32.).




Рис.32. График зависимости напряжённости электрического поля,
 требующейся для поддержания СВЧ разряда, от давления газа.
 Ординаты кривых для 3 частот условно приведены к одинаково-
                         му уровню

     Оптимальное давление газа, при котором для поддержа-
ния разряда требуется наименьшая напряжённость электриче-
ского поля, находят из этого графика.
     Мощность э/м излучения, генерируемого магнетроном,
составляет 800 Вт. В зависимости от продолжительности им-
пульса СВЧ излучения и частоты включения магнетрона, вы-
водятся режимы работы СВЧ печи, которые соответствуют ус-
реднённым значениям мощности э/м излучения.
     Существуют 5 рабочих режимов, соответствующие 90, 240,
360, 600 и 800 Вт. Их установка производится при помощи ручки
1, изображённой на рис. 33. Время обработки образца регулиру-
ется посредством ручки 2. Обработку образцов проводят в сле-
дующих режимах: 90 Вт - режим мягкой обработки, 240 и 360 Вт
- режимы оптимальной обработки. Их выбор зависит от постав-
ленных задач, прежде всего от того, насколько глубоко требу-
ется провести травление