Получение и исследования наноструктур. Вальднер В.О - 92 стр.

UptoLike

Рубрика: 

92
Прибор измерения удельного поверхностного сопротивления ИУС-3
Он состоит из блока преобразования сигнала БПС и контакт-
ного устройства УК. Внешний вид контактного устройства УК изо-
бражен на рис.40 (см. ниже).
Ход выполнения работы
Практическая часть лабораторной работы состоит из 4 этапов:
1.Так называемоехолостоевключение плазменного моду-
ля СВЧ.
2.Визуальный контроль изменения состояния поверхности
образца при плазмохимической обработке.
3.Плазмохимическая обработка ITO покрытия на подложке
из стекла.
4.Плазмохимическая обработка пластин КЭФ 4,5 (1,0,0).
Вакуумная гигиена
Факт того, что плазмохимическая обработка протекает в ва-
кууме, требует от экспериментатора особого внимания и акку-
ратности.
Перед началом проведения опытов необходимо удостове-
риться в том, что плазменный реактор чист.
Не допускать попадания в вакуумную камеру грязи, мусора
и др.
Все операции проводятся только в перчатках. Не допускать
контакта
кожного покрова с образцами и внутренней частью
плазменного реактора.
Установку образцов на оснастку и их извлечение необходи-
мо выполнять при помощи пинцета.
Образцы на оснастке размещают таким образом, чтобы они
не соприкасались друг с другом и неподвижно находились на
ней. Это делается для исключения возможности их растрескива-
ния или крошения
в ходе травления, т.к. плазменный реактор
может выйти из строя.
Подключение ВИТ-2
1.Включить прибор в сеть.
                                 92

Прибор измерения удельного поверхностного сопротивления ИУС-3
     Он состоит из блока преобразования сигнала БПС и контакт-
ного устройства УК. Внешний вид контактного устройства УК изо-
бражен на рис.40 (см. ниже).
                    Ход выполнения работы
     Практическая часть лабораторной работы состоит из 4 этапов:
     1.Так называемое “холостое” включение плазменного моду-
ля СВЧ.
     2.Визуальный контроль изменения состояния поверхности
образца при плазмохимической обработке.
     3.Плазмохимическая обработка ITO покрытия на подложке
из стекла.
     4.Плазмохимическая обработка пластин КЭФ 4,5 (1,0,0).
Вакуумная гигиена
      Факт того, что плазмохимическая обработка протекает в ва-
кууме, требует от экспериментатора особого внимания и акку-
ратности.
      Перед началом проведения опытов необходимо удостове-
риться в том, что плазменный реактор чист.
      Не допускать попадания в вакуумную камеру грязи, мусора
и др.
      Все операции проводятся только в перчатках. Не допускать
контакта кожного покрова с образцами и внутренней частью
плазменного реактора.
      Установку образцов на оснастку и их извлечение необходи-
мо выполнять при помощи пинцета.
      Образцы на оснастке размещают таким образом, чтобы они
не соприкасались друг с другом и неподвижно находились на
ней. Это делается для исключения возможности их растрескива-
ния или крошения в ходе травления, т.к. плазменный реактор
может выйти из строя.
                      Подключение ВИТ-2
     1.Включить прибор в сеть.