Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 62 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

11. Нанотехнологии: физика, процессы, диагностика,

приборы / Под ред. В.В. Лучинина, Ю.М. Таирова. – М.:

Физматлит, 2006. – 552 с.

12. Сейсян P.П. Нанолитография СБИС в экстремально

дальнем вакуумном ультрафиолете / Журнал технической

физики. – 2005. – Т. 75. – В. 5. – С. 1-13.

13. Виноградов А.В. Многослойная рентгеновская оптика /

Квантовая электроника. – 2002. – Т. 32. – № 12. – С. 1113-1121.

14. Сейсян Р.П. ЭУФ-нанолитография как средство

производства СБИС и инструмент нанотехнологий / Нано- и

микросистемная техника. – 2006. – № 2. – С. 2-22.

15. Гапонов С.В. Экстремальная ультрафиолетовая

литография – будущее наноэлектроники / Нано- и

микросистемная техника. – 2005. – № 2. – С. 2-4.

16. Liao Wen-Chang High aspect ratio pattern transfer in

imprint lithography using a hybrid mold / High Journal of Vacuum

Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer

Structures. – 2004. – V. 22. – Issue 6. – P. 2764-2767.

17. Whitman L. J. Tunneling microscopy and spectroscopy /

Whitman. The Encyclopedia of Applied Physics, 2007. – 768 р.

18. Обухов И.А. О возможности применения СТМ-АСМ

литографии для создания новых типов квантовых приборов /

Микросистемная техника. – 2003. – № 6. – С. 34-37.