Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 65 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

35. García R., Calleja M. Patterning of silicon surfaces with

noncontact atomic force microscopy: Field-induced formation of

nanometer-size water bridges / Journal of Applied Physics. – 1999. –

V. 86. – № 4. – Р. 1898-1903.

36. Lyding J.W. Nanoscale patterning and oxidation of H-

passivated Si (100) surfaces with an ultrahigh vacuum scanning

tunneling microscope / Appl. Phys. Lett. – 1994. – V. 64. – № 15. –

P. 2010-2012.

37. Смирнов В.А. Формирование наноразмерных структур

методом локального анодного окисления пленки титана /

Материалы первой ежегодной научной конференции студентов

и аспирантов базовых кафедр Южного научного центра РАН. –

Ростов-на-Дону: Изд-во ЮНЦ РАН, 2005. – С. 268-269.

38. Агеев О.А. и др. Исследование режимов формирования

элементов наноэлектроники методом локального анодного

окисления / Материалы VIII Всероссийской научной

конференции студентов и аспирантов «Техническая

кибернетика, радиоэлектроника и системы управления», –

Таганрог: Изд-во ТРТУ, 2006. – С. 262-263.

39. Атомная структура полупроводниковых структур:

сборник статей / Под ред. А.Л. Асеева. – Новосибирск: Изд-во

СО РАН, 2006. – 292 с.

40. Агеев О.А. и др. Исследование процесса локального

анодного окисления пленки титана при стимуляции

ультрафиолетовым излучением / Материалы МНК «Тонкие