Методы формирования структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники - 70 стр.

UptoLike

70
микроскопа в кремнии / Известия вузов. Электроника. 1998.
№ 3. – С. 52-59.
70. Gordon A.E., Fayfield R.T., Litfin D.D. Mechanism of
surface anodization produced by scanning probe microscopes / Appl.
Phys. Lett. – 2000. – A 86. – P. 234-237.
71. Неволин В.К. Физические основы туннельно-зондовой
нанотехнологии / Электронная промышленность. 1993. 3.
– Р. 139-142.
72. Методы физических измерений / Под ред. Р.И.
Солоухина. – Новосибирск: Наука, 1975. – 250 с.
73. Богданов А.И., Валиев К.А., Беликов Л.В., Душенков
С.Д., Иванова М.И. Роль активных кислородных частиц в
процессе УФ – очистки поверхности неорганической подложки /
Микроэлектроника. – 1989. – Т. 18. № 6. – С.540-543.
74. Барыбин А.А., Сидоров В.Г. Физико-технологические
основы электроники. – СПб.: Изд-во «Лань», 2001. – 272 с.
75. Таблицы физических величин. Справочник / Под ред.
И.К. Кикоина. – М.: Атомиздат, 1976. – 1008 с.
76. Воробьев Г.А. Физика диэлектриков. Томск, 1977.
251 с.