ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
71
СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ…………………………………………………………… 3
Модуль 1. Основные методы нанолитографии, персп
ективы
применения зондовых нанотехнологий
при формировании
структур элементов наноэлектроники и наносистемной техники...
5
1.1. Основные методы формирования наноструктур…………….
5
1.1.1. Оптическая литография………………………………………… 7
1.1.2. Электронно-лучевая литография……………………………… 8
1.1.3. Ионно-лучевая литография…………………………………… 10
1.1.4. Рентгеновская литография……………………………………… 12
1.1.5. Литография в экстремальном ультрафиолете……………. 13
1.1.6. Нанопечатная литография………………………………….........
14
1.2. Основные методы формирования наноразмерных структур
с помощью сканирующего зондового микроскопа (СЗМ)… 15
1.2.1. Механическая модификация поверхности с помощью
атомно-силового микроскопа (АСМ)………………………........
16
1.2.2. Полевое испарение.…………………………………………............
17
1.2.3. Dip-pen
литография…………………………………………….......
19
1.2.4. Нанолитография методом локального анодного окисления
(ЛАО)............................................................................................... 21
1.3. Основные направления создания устройств
наноэлектроники с помощью метода ЛАО………………… 24
1.3.1. Устройства металлической наноэлектроники……………… 24
