Методы расчета ионно-имплантированных структур. Быкадорова Г.В - 3 стр.

                                        3



                              СОДЕРЖАНИЕ


1. Распределение примеси при двойной последовательной
   имплантации …………………………………………………………………….. 4

2. Определение энергии ионов и дозы имплантации, необходимых
   для получения заданных концентрации и глубины залегания p-n перехода. 13

3. Определение отношения минимальной к максимальной емкости МОП
    структуры с ионно-имплантированным каналом …………...…………. …. 17

Литература …………………………..…………………………………………..                                25