Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 146 стр.

газового травления, в соединения, обладающие высокой летучестью.
Например, добавление в газовую среду триэтилфосфина (PEt3, Et =
CH2CH3) в количестве 5% (об.) предотвращает полимеризацию CuCl в
тримерную форму и сопровождается химической реакцией CuCl(s) +
2PEt3(g) → ClCu(PEt3)2(g). Образующееся соединение ClCu(PEt3)2
обладает высокой термической устойчивостью (до 523 К), имеет
высокое давление насыщенных паров (120 Па при 363 К) и является
одним из самых летучих молекулярных соединений меди, известных в
настоящее время. Это позволяет проводить газовое травление меди в
среде Cl2 в кинетическом режиме, начиная с температур ∼ 423 К, а
характерные скорости травления при этой температуре составляют ∼ 1
мкм/мин.
     Хром. Травление хрома проводят в хлорсодержащей плазме,
однако скорость процесса является очень низкой из-за низкой летучести
образующихся хлоридов. Положительное влияние на скорость
травления оказывают добавки кислорода, что приводит к образованию
летучего оксихлорида хрома CrCl2O2. Согласно литературным данным,
в смеси Cl2:O2=1:1 скорость травления достигает 18 нм/мин.

                         3.7. Заключение

     Поверхность материала, контактирующая с плазмой, подвергается
комплексному воздействию различных типов химически и
энергетически активных частиц – нейтральных атомов и молекул в
основном и возбужденном состояниях, ионов, электронов, УФ
излучения, - причем вклады отдельных каналов могут быть
неаддитивными. Брутто-эффект взаимодействия ХАЧ с поверхностью
формируется последовательностью пяти основных стадий:
     1) образование ХАЧ в газовой фазе, 2) доставка ХАЧ к
поверхности обрабатываемого материала, 3) адсорбция ХАЧ, 4)
химическая реакция и 5) десорбция продуктов взаимодействия с
поверхности в газовую фазу и унос их с потоком газа из зоны реакции,
причем любая из указанных стадий может быть лимитирующей. По
соотношению скоростей объемных (1, 2) и собственно гетерогенных (3-
5) стадий различают диффузионный и кинетический режимы
протекания гетерогенной химической реакции. Для процессов,
протекающих в кинетическом режиме, удовлетворительное описание
взаимосвязи внешних параметров плазмы и кинетики процессов на
поверхности может быть получено в рамках адсорбционно-
десорбционной модели гетерогенного процесса и теории активных
центров Лангмюра-Хиншельвуда.

                                146