Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 172 стр.

напряжение от ВЧ генератора. В диодной ВЧ системе возможность ИПТ
любых материалов (металлов, полупроводников, диэлектриков,
органических соединений и др.) сочетается с простотой конструкции и
большой площадью ВЧ электрода, на которой обеспечивается
равномерная ионная бомбардировка. К основным параметрам диодной
ВЧ системы относятся давление рабочего газа P (0.5 - 5 Па),
межэлектродное расстояние L (4 - 8 см), радиус ВЧ электрода (мишени)
R (10 - 30 см), мощность W (1 - 4 кВт) и частота f ВЧ разряда (0.44;
1.76; 5.28; 13.56 и 27.12 МГц). Характерной особенностью систем с ВЧ
разрядами является необходимость согласования ВЧ генератора с
распылительной камерой, полное сопротивление (импеданс) которой
может меняться в очень широких пределах в зависимости от размеров
электродов, давления и состава рабочего газа, магнитного поля, а также
в результате покрытия внутрикамерных конструкций пленками
распыленных материалов. Поэтому в системах ИПТ с ВЧ разрядами
должны быть предусмотрены устройство стабилизации рабочего
давления при различных расходах рабочего газа и устройство
согласования, обеспечивающее определенное значение сопротивления
между ВЧ генератором и распылительной камерой, выполняющей роль
нагрузки.




Рис. 4.6.1. Системы ИПТ: а - планарная ВЧ (ПТ) диодная;
б - вертикальная ВЧ (ПТ) диодная с многогранным электродом;
в - триодная; г - планарная магнетронная. Обозначения: 1 - камера;
2 - заземленный электрод; 3 - ВЧ (ПТ) электрод; 4 - заземленный экран;
5 - откачка; 6 - обрабатываемые пластины; 7 - напуск газа; 8 - анод;
9 - термокатод; 10 - магнитная система
                                 172