Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 173 стр.

      Схема планарной диодной системы постоянного тока аналогична
схеме планарной ВЧ системы (рис.4.6.1,а), только вместо ВЧ генератора
используется источник постоянного напряжения и нет необходимости в
согласующем устройстве. Область применения диодных систем
постоянного тока ограничена ИПТ проводящих материалов, рабочие
давления лежат в диапазоне 1.33—13.3 Па, а размеры электродов и
межэлектродные расстояния такие же, как у диодных ВЧ систем.
Травление материалов в диодных системах постоянного тока
осуществляется в аномальном тлеющем разряде при напряжении на
катоде 1 - 2 кВ. В таких системах скорости ионно-плазменного
травления органических масок в несколько раз ниже, чем в ВЧ
системах, что позволяет проводить травление проводящих слоев на
большую глубину.
      Для увеличения производительности за счет загрузки большого
числа пластин, а также уменьшения степени загрязнения поверхности
пластин отслаивающимися от заземленного электрода пленками и
частицами применяют вертикальную диодную ВЧ систему с
многогранным ВЧ электродом (рис.4.6.1,б). В такой системе для
увеличения равномерности травления может быть использовано
вращение ВЧ электрода.
      Триодная система ИПТ состоит из трех независимо управляемых
электродов: термокатода, анода и мишени, на которой размещаются
обрабатываемые пластины (рис.4.6.1,в). После откачки рабочей камеры
до давления 10-4 Па катод разогревается до температуры, достаточной
для достижения высокой плотности тока термоэлектронной эмиссии.
Затем в камеру напускается инертный газ и между термокатодом и
анодом подается напряжение около 50 В, что приводит к зажиганию
дугового разряда. На мишень может подаваться как постоянное
отрицательное напряжение при травлении проводящих материалов, так
и ВЧ напряжение при травлении диэлектриков. В триодной системе
процессы образования плазмы и травления разделены, что позволяет
управлять энергией ионов с помощью напряжения на мишени. Кроме
того, если в диодной системе плотность ионного тока составляет 1 -2
мА/см2, то в триодной системе она может достигать 10 -15 мА/см2,
обеспечивая высокие скорости травления материалов. К недостаткам
триодной системы следует отнести трудность получения однородной
плазмы из-за малого размера термокатода по сравнению с холодным
катодом диодной системы, что приводит к неравномерности травления
образцов по поверхности мишени. Наличие термокатода также
ограничивает ресурс работы триодной системы до его смены.
      В планарной магнетронной системе ИПТ (рис.4.6.1,г) под плоским
ВЧ электродом (мишенью) размещены постоянные магниты, форма
                                173