Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 187 стр.

В случае взаимодействия одноименных ионов и атомов определяющим
является сечение процесса резонансной перезарядки. Это сечение слабо
зависит от энергии ионов, однако из-за его изменения 100% потери
импульса и энергии происходят на 80—85 % длины свободного пробега.
Объемный заряд ионов вызывает расходимость пучка и существенно
снижает скорость травления диэлектрических материалов. Для
устранения этого эффекта используют нейтрализацию объемного заряда
пучком электронов. Кроме объемного заряда расходимость пучка
зависит также от конструктивных особенностей источника ионов, их
энергии и плотности тока. Расходимость отрицательно сказывается на
анизотропии ИЛТ, особенно при обработке неподвижных мишеней.
     Процессы ИЛТ обычно реализуются с помощью автономных
ионных источников, в качестве которых могут быть использованы
источники на базе ускорителей с анодным слоем и на базе ускорителей
с замкнутым дрейфом электронов и протяженной зоной ускорения. Для
прецизионного     травления    микроструктур    наиболее    широкое
применение нашли многопучковые ионные источники (МИИ), которые
часто называют источниками Кауфмана (рис. 4.8.1).




Рис. 4.8.1. Расположение электродов и принцип действия МИИ:
1 – термокатод; 2 – ввод рабочего газа; 3 – экран катода;
4 – цилиндрический анод; 5 – соленоид; 6 – плазма; 7 – отражательно -
эмиссионный электрод; 8, 9 – ускоряющий и замедляющий электроды;
10 – ионный пучок; Up – напряжение разряда; Uу – ускоряющее
напряжение; Uз – замедляющее напряжение


                                187