Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 188 стр.

     В МИИ эмитированные катодом первичные электроны,
ускоряющиеся в области катодного падения потенциала, движутся в
плазме по спиральным траекториям вдоль магнитного поля и,
осциллируя в потенциальной яме между катодом и отражательно-
эмиссионным электродом, ионизуют рабочий газ. Благодаря
осцилляциям, время жизни электронов и вероятность ионизации ими
рабочего газа существенно увеличиваются, в результате чего в
стационарном разряде достигается плотность плазмы около 1012 см-3
уже при давлении порядка 10-2 Па и напряжении до 25 В. Отражательно-
эмиссионный электрод имеет отверстия, соосные с отверстиями в
ускоряющем и замедляющем электродах. Таким образом, все три
электрода образуют ионно-оптическую систему, с помощью которой
формируется ионный пучок.
     Для прецизионного травления микроструктур необходима
хорошая коллимация ионного пучка. Однако однородное магнитное
поле, направленное вдоль оси разрядной камеры (рис. 4.8.2,а), создает
сильную неоднородность плазмы на границе отражательно-
эмиссионного электрода (экстрагирующей сетки) и обеспечивает
сравнительно небольшой диаметр ионного пучка.




Рис. 4.8.2. Характер распределения магнитного поля (а-г) и плотности
ионного тока (д-ж) в МИИ: а – однородное поле; б – расходящееся
закрытое поле; в – расходящееся открытое поле; г – сходящееся
поле; д – МИИ с одним катодом; е – МИИ с мультикатодной системой;
ж – МИИ с мультиполевой магнитной системой; 1 – анод; 2 – катод;
3 – полюсные наконечники; 4 – ионный поток; 5 – первичные
электроны (зона плазмы); 6 – газ

                                188