Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 190 стр.

особенностей применения МИИ с многоапертурной ионно-оптической
системой является необходимость поддерживать значительный перепад
давлений между разрядной (Р ∼ 10-1 Па) и рабочей (Р ∼ 10-2 – 2×10-3 Па)
камерами. Низкое давление в рабочей камере необходимо для того,
чтобы снизить потери в ионном потоке и устранить возможность
расфокусировки пучков. Кроме того, при этом снижается вероятность
загрязнения обрабатываемых микроструктур остаточными газами.
      Давление в разрядной и рабочей камерах прежде всего зависит от
газового потока, подаваемого в разрядную камеру. Снижение потока
вызывает уменьшение ионного тока и, как следствие, скорости
травления. Кроме того, на эффективность работы ионного источника
значительное влияние оказывает способ ввода газа в разрядную камеру
(рис. 4.8.3). При подаче газа обратным потоком со стороны ионно-
оптической системы (рис. 4.8.3,в) плотность плазмы максимальна на
выходе разрядной камеры и убывает в направлении катода. При прямом
потоке газа (со стороны катода) через одно центральное и два
симметрично расположенных отверстия (рис. 4.8.3,а), наоборот,
плотность плазмы максимальна в прикатодной области. Первый вариант
ввода рабочего газа позволяет достичь значительной плотности ионного
тока,    но     однородность     ионного    потока     по     сечению
неудовлетворительная. Во втором варианте ионный поток более
однородный, но с низкой плотностью тока. Чаще всего в
технологических источниках ионов газ вводится прямым потоком с
катодной стороны разрядной камеры через специальную сетку —
газовый распределитель (рис. 4.8.3,б) При этом можно получить
оптимальное значение ионного тока при достаточно хорошей
коллимации ионного пучка.




Рис. 4.8.3 Способы введения рабочего газа в разрядную камеру МИИ: а,
б – прямой поток; в – обратный поток

     Многопучковые ионные источники имеют ряд преимуществ перед
другими ионными источниками, применяемыми в ионной технологии,
поскольку они характеризуются:
• низким напряжением разряда (начиная с 20 В), что ограничивает
  возможность возникновения многозарядных ионов, распыления
                                 190