ВУЗ:
Составители:
202
2. Доставка ХАЧ к поверхности обрабатываемого материала с
помощью диффузии и газового потока. Интенсифицировать эту
стадию может только мощное лазерное излучение, сфокусированное
в плоскости на малом (около 1 мм) расстоянии от поверхности
обрабатываемого материала и ускоряющее процессы переноса за счет
нагрева газовой среды.
3. Адсорбция газовых молекул и химически активных частиц на
поверхности обрабатываемого материала. Поскольку адсорбция
химически активных частиц протекает с выделением энергии, то,
очевидно, радиационное воздействие не может интенсифицировать
эту стадию. При воздействии излучения возможны процессы
диссоциации адсорбированных молекул и радикалов и их десорбции.
Вероятность осуществления процессов диссоциации и десорбции
зависит от конкретного вида молекул, радикалов, радиационного
воздействия и его параметров.
4. Образование продуктов реакции.
5. Рекомбинация химически активных частиц на поверхности
материала.
6. Удаление с поверхности материала продуктов реакции и
адсорбированных частиц. Продукты реакции могут удаляться с
помощью как обычной, так и радиационно-стимулированной
десорбции. При использовании в качестве радиационного
воздействия ионов с энергией больше 50 эВ необходимо учитывать
процесс удаления поверхностных атомов материала за счет
физического распыления.
Безусловно, рассмотренные стадии не охватывают всего
многообразия явлений, происходящих при радиационно-
стимулированном травлении материалов, но, на наш взгляд, наиболее
существенны и типичны.
Фотонно-стимулированное травление и очистка материалов
связана с воздействием излучения: 1)на газовую фазу с генерацией
радикалов или возбуждением газовых молекул; 2)на адсорбированный
слой с генерацией в нем радикалов и стимуляцией процессов десорбции
и испарения; 3)на материал с возбуждением его электронов, решетки и
нагреванием локальных областей. Преобладание теплового механизма
травления материалов характерно для излучений в инфракрасной и
видимой областях спектра с плотностью мощности больше 10
9
Вт/см
2
.
Для излучения малой плотности мощности (менее 10
7
Вт/см
2
) в
ультрафиолетовой и рентгеновской областях спектра характерен
диффузионно-рекомбинационный механизм травления.
Варианты конструкций систем фотонно - стимулированного
травления разнообразны. Излучение может быть направлено как
2. Доставка ХАЧ к поверхности обрабатываемого материала с
помощью диффузии и газового потока. Интенсифицировать эту
стадию может только мощное лазерное излучение, сфокусированное
в плоскости на малом (около 1 мм) расстоянии от поверхности
обрабатываемого материала и ускоряющее процессы переноса за счет
нагрева газовой среды.
3. Адсорбция газовых молекул и химически активных частиц на
поверхности обрабатываемого материала. Поскольку адсорбция
химически активных частиц протекает с выделением энергии, то,
очевидно, радиационное воздействие не может интенсифицировать
эту стадию. При воздействии излучения возможны процессы
диссоциации адсорбированных молекул и радикалов и их десорбции.
Вероятность осуществления процессов диссоциации и десорбции
зависит от конкретного вида молекул, радикалов, радиационного
воздействия и его параметров.
4. Образование продуктов реакции.
5. Рекомбинация химически активных частиц на поверхности
материала.
6. Удаление с поверхности материала продуктов реакции и
адсорбированных частиц. Продукты реакции могут удаляться с
помощью как обычной, так и радиационно-стимулированной
десорбции. При использовании в качестве радиационного
воздействия ионов с энергией больше 50 эВ необходимо учитывать
процесс удаления поверхностных атомов материала за счет
физического распыления.
Безусловно, рассмотренные стадии не охватывают всего
многообразия явлений, происходящих при радиационно-
стимулированном травлении материалов, но, на наш взгляд, наиболее
существенны и типичны.
Фотонно-стимулированное травление и очистка материалов
связана с воздействием излучения: 1)на газовую фазу с генерацией
радикалов или возбуждением газовых молекул; 2)на адсорбированный
слой с генерацией в нем радикалов и стимуляцией процессов десорбции
и испарения; 3)на материал с возбуждением его электронов, решетки и
нагреванием локальных областей. Преобладание теплового механизма
травления материалов характерно для излучений в инфракрасной и
видимой областях спектра с плотностью мощности больше 109 Вт/см2.
Для излучения малой плотности мощности (менее 107 Вт/см2) в
ультрафиолетовой и рентгеновской областях спектра характерен
диффузионно-рекомбинационный механизм травления.
Варианты конструкций систем фотонно - стимулированного
травления разнообразны. Излучение может быть направлено как
202
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 200
- 201
- 202
- 203
- 204
- …
- следующая ›
- последняя »
