Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 255 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

255
2
N
λ
= 371.1 нм при Р = 60 - 220 Па и i
р
=3 - 20 мА).
Еще одним вариантом
использования эмиссионной
спектроскопии является метод
лазерно - индуцированной
флуоресценции.
Регистрируемым сигналом
здесь также служит
собственное излучение плазмы,
однако возбуждение частиц
происходит излучением лазера.
В качестве последнего чаще
всего используется
перестраиваемый лазер на
красителях. Основным
достоинством метода является
то, что скорость возбуждения
является независимой от
внешних параметров плазмы и
может регулироваться для достижения максимальной
чувствительности по каждому определяемому компоненту. В такой
ситуации интенсивность излучения зависит от параметров плазмы
только через концентрацию определяемых частиц, поэтому связь
«интенсивность-концентрация» является однозначной. Недостатком
метода лазерно-индуцированной флуоресценции является сложность
аппаратного оформления, поэтому он относится скорее к научным
аналитическим, чем к технологическим.
6.5. Контроль по изменению электрофизических параметров
плазмы
Контроль моментов начала и окончания процессов травления в
плазме может проводиться по изменению электрофизических
параметров плазмы. Эти изменения имеют место вследствие изменения
состава газовой фазы разряда за счет газификации продуктов
гетерогенного взаимодействия. В промышленных реакторах
плазменного травления при возбуждении плазмы ВЧ полем наиболее
часто реализуется контроль по изменению импеданса разрядного
промежутка
Z
, который определяется отношением WUZ
2
= , где
U
-
напряжение между электродами и
W
- мощность, вкладываемая в
разряд. Например, при образовании продуктов взаимодействия с
4 6 8 10 12 14 16
4
6
8
10
12
14
n
Cl
, 10
15
см
-3
i
p
, мА
1
2
3
Рис. 6.4.5. Сравнение концент-раций
атомов хлора в плазме Cl
2
по
данным актинометрии (1, 2)
абсорбционной спектроскопии (3): 1
– по
2N
λ
= 371.1 нм; 2 - по
2N
λ
= 380.5
нм.
2
Cl
P = 60 Па 
λN2 = 371.1 нм при Р = 60 - 220 Па и iр=3 - 20 мА).
             14                                  Еще одним вариантом
             1                             использования      эмиссионной
   12        2                             спектроскопии является метод
             3                             лазерно - индуцированной
-3




   10
                                                           флуоресценции.
nCl, 10 см
15




    8                                      Регистрируемым        сигналом
                                           здесь       также       служит
    6                                      собственное излучение плазмы,
    4
                                           однако возбуждение частиц
       4     6   8     10  12 14     16    происходит излучением лазера.
                    ip, мА                 В качестве последнего чаще
Рис. 6.4.5. Сравнение концент-раций всего                     используется
атомов хлора в плазме Cl2 по перестраиваемый лазер на
данным       актинометрии       (1,     2) красителях.          Основным
абсорбционной спектроскопии (3): 1 достоинством метода является
– по λN 2 = 371.1 нм; 2 - по λN 2 = 380.5 то, что скорость возбуждения
                                           является     независимой     от
нм. PCl = 60 Па   2
                                           внешних параметров плазмы и
может        регулироваться         для     достижения       максимальной
чувствительности по каждому определяемому компоненту. В такой
ситуации интенсивность излучения зависит от параметров плазмы
только через концентрацию определяемых частиц, поэтому связь
«интенсивность-концентрация» является однозначной. Недостатком
метода лазерно-индуцированной флуоресценции является сложность
аппаратного оформления, поэтому он относится скорее к научным
аналитическим, чем к технологическим.

6.5. Контроль по изменению электрофизических параметров
                         плазмы

     Контроль моментов начала и окончания процессов травления в
плазме может проводиться по изменению электрофизических
параметров плазмы. Эти изменения имеют место вследствие изменения
состава газовой фазы разряда за счет газификации продуктов
гетерогенного   взаимодействия.   В    промышленных      реакторах
плазменного травления при возбуждении плазмы ВЧ полем наиболее
часто реализуется контроль по изменению импеданса разрядного
промежутка Z , который определяется отношением Z = U 2 W , где U -
напряжение между электродами и W - мощность, вкладываемая в
разряд. Например, при образовании продуктов взаимодействия с

                                   255

Страницы