Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 257 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

257
Фактически такая система представляет двойной зонд Лангмюра,
поэтому любое изменение состава плазмы при изменении концентрации
продуктов травления в газовой фазе вызовет изменение тока в цепи
зондов.
Достоинством рассмотренных методов является их простота,
отсутствие необходимости использования дополнительного
дорогостоящего оборудования. Однако чувствительность их невысока,
поэтому применимость также ограничена.
6.6. Заключение
В основе выбора параметров контроля ионно-плазменных и
плазмохимических процессов лежат следующие источники
информации:
• интенсивность и состав потока частиц плазмы (ионы, атомы,
молекулы, радикалы, УФ кванты), поступающего на поверхность
обрабатываемого материала;
• интенсивность образования и состав продуктов взаимодействия
активных частиц плазмы с обрабатываемым материалом;
• изменение газодинамических, оптических, электрофизических и
других параметров плазмы;
• изменение физико-химических свойств обрабатываемой
поверхности.
Первые три источника лежат в основе так называемых
«объемных» методов контроля плазмы и плазменных процессов, когда
объектом исследования является газовая фаза разряда. К наиболее
универсальным и информативным методам здесь относятся метод
зондов Лангмюра, масс-спектрометрия и оптическая эмиссионная
спектроскопия. Не существует универсального метода контроля,
удовлетворяющего требованиям по чувствительности и простоте
реализации для всех возможных видов процессов плазменной обработки
материалов.
6.7. Контрольные вопросы
1. Что включает в себя понятие контроля плазменного процесса?
2. Сформулируйте основные требования к методам контроля плазмы и
плазменных процессов
3. Какие параметры плазмы могут быть определены при зондовой
диагностике?
4. Какие ограничения существуют при диагностике плазмы методом 
Фактически такая система представляет двойной зонд Лангмюра,
поэтому любое изменение состава плазмы при изменении концентрации
продуктов травления в газовой фазе вызовет изменение тока в цепи
зондов.
     Достоинством рассмотренных методов является их простота,
отсутствие    необходимости      использования    дополнительного
дорогостоящего оборудования. Однако чувствительность их невысока,
поэтому применимость также ограничена.

                        6.6. Заключение

      В основе выбора параметров контроля ионно-плазменных и
плазмохимических      процессов   лежат    следующие     источники
информации:
• интенсивность и состав потока частиц плазмы (ионы, атомы,
   молекулы, радикалы, УФ кванты), поступающего на поверхность
   обрабатываемого материала;
• интенсивность образования и состав продуктов взаимодействия
   активных частиц плазмы с обрабатываемым материалом;
• изменение газодинамических, оптических, электрофизических и
   других параметров плазмы;
• изменение      физико-химических      свойств    обрабатываемой
   поверхности.
      Первые три источника лежат в основе так называемых
«объемных» методов контроля плазмы и плазменных процессов, когда
объектом исследования является газовая фаза разряда. К наиболее
универсальным и информативным методам здесь относятся метод
зондов Лангмюра, масс-спектрометрия и оптическая эмиссионная
спектроскопия. Не существует универсального метода контроля,
удовлетворяющего требованиям по чувствительности и простоте
реализации для всех возможных видов процессов плазменной обработки
материалов.

                  6.7. Контрольные вопросы

1. Что включает в себя понятие контроля плазменного процесса?
2. Сформулируйте основные требования к методам контроля плазмы и
   плазменных процессов
3. Какие параметры плазмы могут быть определены при зондовой
   диагностике?
4. Какие ограничения существуют при диагностике плазмы методом

                               257

Страницы